[發明專利]光刻工藝條件添加方法及裝置、設計系統、介質和設備

有效

• 申請號: 202110339791.0
• 申請日: 2021-03-30
• 公開（公告）號: CN113050389B
• 公開（公告）日: 2022-12-02
• 發明（設計）人: 陳志立
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G06F30/392
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

1.一種光刻工藝條件添加方法，用于圖形設計系統，其特征在于，所述方法包括：

獲取所述圖形設計系統中記錄的層識別碼，根據所述層識別碼確定光刻層對應的工藝條件；其中，如果產品已生產，則根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的光刻膠種類、顯影液種類和圖形種類，作為所述工藝條件；所述光刻膠種類包括正性光刻膠或負性光刻膠；所述顯影液種類包括正顯影液或負顯影液；所述圖形種類包括透光或遮光；如果產品未進行生產，則手動設定所述工藝條件；

根據所述工藝條件生成工藝類型數據信息；

將所述工藝類型數據信息通過所述層識別碼標記，并存儲至所述圖形設計系統中。

2.根據權利要求1所述的光刻工藝條件添加方法，其特征在于，根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的光刻膠種類包括：

根據所述層識別碼獲取所述光刻層在涂膠顯影機臺所使用的光刻膠種類。

3.根據權利要求1所述的光刻工藝條件添加方法，其特征在于，根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的顯影液種類包括：

根據所述層識別碼獲取所述光刻層在涂膠顯影機臺所使用的顯影液種類。

4.根據權利要求1所述的光刻工藝條件添加方法，其特征在于，根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的圖形種類包括：

根據所述層識別碼獲取所述光刻層在關鍵尺寸掃描電子顯微鏡機臺量測的圖形種類。

5.一種光刻工藝條件添加裝置，用于圖形設計系統，其特征在于，所述裝置包括：

工藝條件確定模塊，用于獲取所述圖形設計系統中記錄的層識別碼，根據所述層識別碼確定光刻層對應的工藝條件；其中，如果產品已生產，則根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的光刻膠種類、顯影液種類和圖形種類，作為所述工藝條件；所述光刻膠種類包括正性光刻膠或負性光刻膠；所述顯影液種類包括正顯影液或負顯影液；所述圖形種類包括透光或遮光；如果產品未進行生產，則手動設定所述工藝條件；

數據信息生成模塊，用于根據所述工藝條件生成工藝類型數據信息；

數據信息存儲模塊，用于將所述工藝類型數據信息通過所述層識別碼標記，并存儲至所述圖形設計系統中。

6.一種圖形設計系統，其特征在于，包括：

存儲子系統，用于存儲每個光刻層對應的層識別碼；

工藝條件確定子系統，用于獲取所述光刻層對應的層識別碼，根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的工藝條件；其中，如果產品已生產，則根據所述層識別碼確定所述光刻層對應的光刻膠種類、顯影液種類和圖形種類，作為所述工藝條件；所述光刻膠種類包括正性光刻膠或負性光刻膠；所述顯影液種類包括正顯影液或負顯影液；所述圖形種類包括透光或遮光；如果產品未進行生產，則手動設定所述工藝條件；

數據信息生成子系統，用于根據所述工藝條件生成工藝類型數據信息；

所述存儲子系統，還用于將所述工藝類型數據信息與所述層識別碼對應存儲。

7.根據權利要求6所述的圖形設計系統，其特征在于，所述工藝條件確定子系統還用于，根據所述層識別碼獲取所述光刻層在涂膠顯影機臺所使用的光刻膠種類。

8.根據權利要求6所述的圖形設計系統，其特征在于，所述工藝條件確定子系統還用于，根據所述層識別碼獲取所述光刻層在涂膠顯影機臺所使用的顯影液種類。

9.根據權利要求6所述的圖形設計系統，其特征在于，所述工藝條件確定子系統還用于，根據所述層識別碼獲取所述光刻層在關鍵尺寸掃描電子顯微鏡機臺量測的圖形種類。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執行時實現權利要求1-4中任意一項所述的光刻工藝條件添加方法。

11.一種電子設備，其特征在于，包括：

處理器；以及

存儲器，用于存儲所述處理器的可執行指令；

其中，所述處理器配置為經由執行所述可執行指令來執行權利要求1-4中任意一項所述的光刻工藝條件添加方法。