[發明專利]光學成像系統、取像模組和電子設備

有效

• 申請號: 202110339123.8
• 申請日: 2021-03-30
• 公開（公告）號: CN112987257B
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 華露;楊健;李明
• 申請（專利權）人: 江西晶超光學有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;H04N5/225;H04M1/02
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 朱琳愛義

1.一種光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統包括九片透鏡，由物側到像側依次包括：

具有正光焦度的第一透鏡，所述第一透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第一透鏡的像側面于近光軸處為凹面；

具有負光焦度的第二透鏡，所述第二透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第二透鏡的像側面于近光軸處為凹面；

具有正光焦度的第三透鏡，所述第三透鏡的物側面于近光軸處為凸面；

具有光焦度的第四透鏡,所述第四透鏡的像側面于近光軸處為凹面；

具有光焦度的第五透鏡，所述第五透鏡的物側面于近光軸處為凹面，所述第五透鏡的像側面于近光軸處為凸面；

具有光焦度的第六透鏡，所述第六透鏡的物側面于近光軸處為凹面，所述第六透鏡的像側面于近光軸處為凸面；

具有負光焦度的第七透鏡，所述第七透鏡的像側面于近光軸處為凹面；

具有光焦度的第八透鏡，所述第八透鏡的物側面于近光軸處為凸面；

具有光焦度的第九透鏡，所述第九透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第九透鏡的像側面于近光軸處為凹面；

所述光學成像系統滿足如下條件式：

EFL/TTL1；

其中，EFL為所述光學成像系統的有效焦距，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統的成像面于光軸上的距離。

2.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

6f2/(r22-r21)14.5；

其中，f2為所述第二透鏡有效焦距；r22為所述第二透鏡像側面于光軸處的曲率半徑；r21為所述第二透鏡物側面于光軸處的曲率半徑。

3.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

15f7/sag72120；

其中，f7為所述第七透鏡有效焦距；sag72為所述第七透鏡的像側面于最大有效直徑處的矢高。

4.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

15r81/|sag81|135；

其中，r81為所述第八透鏡物側面于光軸處的曲率半徑；sag81為所述第八透鏡物側面于最大有效直徑處的矢高。

5.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

f1/sd114.2；

其中，f1為所述第一透鏡的有效焦距；sd11為所述第一透鏡物側面的最大有效半口徑。

6.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

0.32BFL/sd920.4；

其中，BFL所述第九透鏡的像側面至所述光學成像系統的成像面在光軸方向的最小距離；sd92為所述第九透鏡像側面最大有效半口徑。

7.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

IMGH*2/TTL0.93；

其中，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統的成像面于光軸上的距離；ImgH為所述光學系統最大視場角對應像高的一半。

8.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

tan(FOV/2)/ct190.12mm^-1；

其中，FOV為所述光學成像系統的最大視場角；ct19為所述第一透鏡至所述第九透鏡于光軸上厚度的總和。

9.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足如下條件式：

1.3aet14/at141.75；

其中，aet14為所述第一透鏡至所述第四透鏡的最大有效半口徑處于光軸方向的空氣間隙總和；at14為所述第一透鏡至所述第四透鏡于光軸上的空氣間隙總和。