[發明專利]一種阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜及其制備方法

在審

• 申請號: 202110338841.3
• 申請日: 2021-03-30
• 公開（公告）號: CN113512214A
• 公開（公告）日: 2021-10-19
• 發明（設計）人: 解惠東;徐哲;邵成蒙
• 申請（專利權）人: 浙江中科玖源新材料有限公司
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08G73/10;C08K3/38;C08K3/36;C08K9/06;C08L79/08
• 代理公司: 合肥金律專利代理事務所(普通合伙) 34184
• 代理人: 楊霞

本發明公開了一種阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜，所述阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜中摻雜有1.5?2wt％氨基化氮化硼納米片和7?8wt％納米二氧化硅。本發明還公開了上述阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜的制備方法，包括如下步驟：S1、在惰性氣體氛圍中，取氨基化氮化硼納米片、二胺單體和二酐單體在有機溶液中反應得到聚酰胺酸溶液；然后加入含有氨基的硅烷偶聯劑繼續反應得到溶液A；S2、將溶液A與全氫聚硅氮烷溶液混勻，消泡得到溶液B；將溶液B涂覆于基板表面，亞胺化，冷卻至室溫，剝離得到阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜。本發明具有良好的阻隔性能。

技術領域

本發明涉及聚酰亞胺技術領域，尤其涉及一種阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜及其制備方法。

背景技術

聚酰亞胺被稱為“黃金塑料”，具有突出的熱穩定性和尺寸穩定性，以及良好的分子結構可設計性等特點。聚酰亞胺被認為是柔性有機電致發光器件襯底材料的最佳選擇之一。但是聚酰亞胺的阻隔水蒸氣的性能相對較差，不能阻擋水對器件的陰極、有機發光等材料的侵蝕，限制了聚酰亞胺的應用。

發明內容

基于背景技術存在的技術問題，本發明提出了一種阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜及其制備方法，本發明具有良好的阻隔性能。

本發明提出了一種阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜，所述阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜中摻雜有1.5-2wt％氨基化氮化硼納米片和7-8wt％納米二氧化硅。

優選地，氨基化氮化硼納米片為γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性氮化硼納米片。

本發明還提出了上述阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜的制備方法，包括如下步驟：

S1、在惰性氣體氛圍中，取氨基化氮化硼納米片、二胺單體和二酐單體在有機溶液中反應得到聚酰胺酸溶液；然后加入含有氨基的硅烷偶聯劑繼續反應得到溶液A；

S2、將溶液A與全氫聚硅氮烷溶液混勻，消泡得到溶液B；將溶液B涂覆于基板表面，亞胺化，冷卻至室溫，剝離得到阻隔性好的透明聚酰亞胺薄膜。

上述二胺單體和二酐單體含有氟元素或酯環結構，可以獲得透明的聚酰亞胺薄膜，如1,4-雙(2'-三氟甲基-4'-氨基苯氧基)苯、4,4'-二氨基二環己基甲烷、4,4'-(六氟異丙烯)二酞酸酐、1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐等。

上述含氨基的硅烷偶聯劑可以為γ-氨丙基三乙氧基硅烷等。

優選地，在S1中，二胺單體、二酐單體、含氨基的硅烷偶聯劑的摩爾比為0.92-0.94:1:0.04-0.06。

優選地，在S1中，于室溫反應14-16h得到聚酰胺酸溶液；然后加入含有氨基的硅烷偶聯劑繼續反應1-2h得到溶液A。

優選地，在S1中，溶液A的固含量為15-18wt％。

優選地，在S1中，有機溶劑為N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺中的至少一種。

優選地，在S2中，全氫聚硅氮烷溶液的溶劑為N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺中的至少一種。

優選地，在S2中，亞胺化程序為：分別于70-80℃、110-120℃、150-170℃、220-240℃和330-350℃保溫0.5-1.5h。

有益效果：

本發明選用氨基化氮化硼納米片、二胺單體和二酐單體進行反應，使得聚酰胺酸中接枝氨基化氮化硼納米片均勻分散并接枝在聚酰胺酸中，可以提高本發明的阻隔水蒸氣的性能；