[發(fā)明專利]介質波導環(huán)形器以及隔離器

有效

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• 申請日: 2021-03-30
• 公開（公告）號: CN113258237B
• 公開（公告）日: 2022-09-20
• 發(fā)明（設計）人: 唐鵬;張輝;肖進華;胡文偉
• 申請（專利權）人: 武漢凡谷電子技術股份有限公司
• 主分類號: H01P1/38
• 分類號: H01P1/38;H01P1/39;H01P1/36
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 秦曼妮

1.一種介質波導環(huán)形器，其特征在于：包括核心工作組件、直流磁場組件以及殼體，所述核心工作組件和所述直流磁場組件均與所述殼體相固定，所述核心工作組件包括介質波導和鐵氧體，所述鐵氧體嵌于所述介質波導中，所述核心工作組件的表面整體金屬化；所述介質波導的表面凹設有嵌入槽，所述鐵氧體嵌設在所述介質波導的表面并固定在所述嵌入槽中，所述嵌入槽內設有貫通孔，所述核心工作組件的表面整體焙銀；其中，所述介質波導包括圓形的中間部以及自中間部向外延伸的三個端口，三個端口分別為輸入端口、輸出端口和隔離端口。

2.如權利要求1所述的介質波導環(huán)形器，其特征在于：所述介質波導的各端部上均固定有PIN針。

3.如權利要求1所述的介質波導環(huán)形器，其特征在于：所述介質波導的各端部上均開設有耦合窗口，所述耦合窗口上設置有金屬化的傳輸帶線，所述耦合窗口處還開設有位于所述傳輸帶線靠近所述介質波導中心一端的金屬化的耦合孔。

4.如權利要求1所述的介質波導環(huán)形器，其特征在于：所述直流磁場組件包括第一勻磁鐵片、釤鈷磁鐵以及溫補片，所述殼體包括腔體和頂部蓋板，所述核心工作組件、所述第一勻磁鐵片、所述釤鈷磁鐵以及所述溫補片從上到下依次設置且均收容于所述腔體中，所述頂部蓋板蓋封固定在所述腔體上方。

5.如權利要求1所述的介質波導環(huán)形器，其特征在于：所述直流磁場組件包括釤鈷磁鐵以及溫補片，所述殼體包括腔體、頂部蓋板以及底部蓋板，所述核心工作組件收容于所述腔體中且通過所述頂部蓋板蓋封固定，所述釤鈷磁鐵以及所述溫補片依次設置于所述腔體下方且通過所述底部蓋板蓋封固定。

6.如權利要求4或5所述的介質波導環(huán)形器，其特征在于：所述直流磁場組件還包括鋇鐵和第二勻磁鐵片，所述鋇鐵和所述第二勻磁鐵片從上到下依次設置于所述頂部蓋板和所述核心工作組件之間。

7.如權利要求1所述的介質波導環(huán)形器，其特征在于：所述直流磁場組件包括釤鈷磁鐵，所述殼體包括腔體和頂部蓋板，所述核心工作組件、所述釤鈷磁鐵從上到下依次設置且均收容于所述腔體中，所述頂部蓋板蓋封固定在所述腔體上方。

8.一種介質波導隔離器，其特征在于：包括如權利要求1-7任一所述的介質波導環(huán)形器以及吸波材料，所述吸波材料安裝于所述介質波導的其中一個端口上。