[發明專利]用于光刻設備的流體處理結構及浸沒光刻設備

在審

• 申請號: 202110337094.1
• 申請日: 2017-08-28
• 公開（公告）號: CN113156772A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: P·范德艾登;C·M·諾普斯;T·W·波萊;F·L·寇肯斯;G·塔娜薩;R·H·M·考蒂;K·庫依皮爾斯;H·S·布登貝格;G·L·加托比焦;E·范弗利特;N·坦凱特;M·J·H·弗雷肯;J·L·范埃爾沃;M·M·C·F·托因尼森
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種流體處理結構，配置成將浸沒流體限制到光刻設備的一區域，所述流體處理結構包括：

孔，形成在所述流體處理結構中，用作投影束通過所述浸沒流體而通過所述流體處理結構的通道；

第一部分；和

第二部分；

其中，所述第一部分和所述第二部分中的至少一者限定一表面，所述表面適于從所述區域提取所述浸沒流體；

其中，所述流體處理結構適于提供進入或離開所述流體處理結構的所述表面的流體流，并且其中，所述第一部分相對于所述第二部分的移動實現進入或離開所述表面的流體流相對于所述孔的位置的改變；并且

其中，所述第一部分和所述第二部分中的一者包括用于所述流體流從那里流過的至少一個通孔，并且所述第一部分和所述第二部分中的另一者包括用于所述流體流從那里流過的至少一個開口，所述至少一個通孔和至少一個開口在被對準時是流體連通的，所述移動允許所述至少一個開口與所述至少一個通孔中的一個對準，由此改變進入或離開所述表面的流體流相對于所述孔的位置，且

其中，所述流體流包括：

進入用于提取所述浸沒液體的在所述表面中的至少一個入口開口的流體的流體流，所述至少一個入口開口是所述至少一個通孔中的入口開口；和/或

從所述表面中的至少一個出口開口離開的氣體的流體流，所述至少一個出口開口是所述至少一個通孔中的出口開口。

2.如權利要求1所述的流體處理結構，其中，所述移動包括所述第一部分相對于所述第二部分的旋轉移動。

3.如權利要求1所述的流體處理結構，其中，所述至少一個出口開口布置成使得所述流體流在平面中沿著一條線從所述表面流出，并且由于所述流體流的位置改變，所述流體流實現將浸沒流體的液滴朝向所述孔操縱。

4.如權利要求1所述的流體處理結構，其中，所述至少一個入口開口比所述至少一個出口開口更靠近所述孔。

5.如權利要求4所述的流體處理結構，其中，所述至少一個入口開口位于所述第一部分中，所述至少一個出口開口位于所述第二部分中，并且所述表面由所述第一部分和所述第二部分的基本上共面的表面限定。

6.如權利要求1所述的流體處理結構，其中，進入或離開所述表面的流體流在平面中于所述表面上形成一區域并且在所述表面上具有圍繞所述孔的形狀。

7.如權利要求2所述的流體處理結構，其中，進入或離開所述表面的流體流在平面中于所述表面上形成一區域并且在所述表面上具有圍繞所述孔的形狀。

8.一種流體處理結構，配置成將浸沒流體限制到光刻設備的一區域，所述流體處理結構包括：

孔，形成在所述流體處理結構中，用作投影束通過所述浸沒流體而通過所述流體處理結構的通道；

第一部分；和

第二部分；

其中，所述第一部分和所述第二部分中的至少一者限定一表面，所述表面適于從所述區域提取所述浸沒流體；

其中，所述流體處理結構適于提供進入或離開所述流體處理結構的所述表面的流體流，并且其中，所述第一部分相對于所述第二部分的移動實現進入或離開所述表面的流體流相對于所述孔的位置的改變；

其中，所述第一部分和所述第二部分中的一者包括用于所述流體流從那里流過的至少一個通孔，并且所述第一部分和所述第二部分中的另一者包括用于所述流體流從那里流過的至少一個開口，所述至少一個通孔和至少一個開口在被對準時是流體連通的，所述移動允許所述至少一個開口與所述至少一個通孔中的一個對準，由此改變進入或離開所述表面的流體流相對于所述孔的位置，且

其中，所述流體流包括：

從所述表面中的至少一個出口開口離開的液體的流體流，所述至少一個出口開口是所述至少一個通孔中的出口開口；和

進入用于提取所述浸沒液體的在所述表面中的至少一個入口開口的流體的流體流，所述至少一個入口開口是所述至少一個通孔中的入口開口。