[發明專利]光學系統、攝像模組和電子設備

有效

• 申請號: 202110337003.4
• 申請日: 2021-03-29
• 公開（公告）號: CN113093366B
• 公開（公告）日: 2022-11-29
• 發明（設計）人: 粘明德
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光電技術有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18;G02B13/02;G03B17/17;G03B30/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

一種光學系統、攝像模組和電子設備，光學系統包括由物側至像側沿光軸依次設置的具有正曲折力的第一透鏡、具有負曲折力的第二透鏡、具有曲折力的第三透鏡和光路轉向件；光路轉向件包括入光面、第一反射面、第二反射面和出光面，入光面與第三透鏡的像側面相對并與出光面具有夾角，第二反射面與入光面連接并形成第一夾角，第一反射面與出光面連接并形成第二夾角，光學系統滿足條件式：250°α+β290°；1.45Nd11.6；1.58Nd21.8；1.45Nd31.6；50Vd165；18Vd235；50Vd365。通過上述設置，光學系統能夠同時滿足小型化和實現長焦特性，以及具有較佳的成像性能。

技術領域

本發明屬于光學成像技術領域，尤其涉及一種光學系統、攝像模組和電子設備。

背景技術

隨著手機等電子產品在生活中的廣泛應用，各種科技改進推陳出新。其中，新型電子產品改進中攝像鏡頭拍攝效果的改進創新成為人們關注的重點，同時成為科技改進的一項重要內容，能否使用微型攝像元件拍攝出高畫質感、高分辨率、高清晰度，甚至暗光條件下能拍攝出畫質清晰的圖片成為現代人購買選擇的關鍵因素。另一方面，隨著科技進步，互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)和電荷耦合器件 (Charge-coupled Device，CCD)等感光元件的性能有了較大改進，為拍攝高質量的像質提供了可能，能夠給人們帶來了更高畫質感的拍攝體驗。因此，光學系統設計的小型化及成像性能改進成為目前攝像頭提升拍攝質量的關鍵因素。

發明內容

本發明的目的是提供一種光學系統、攝像模組和電子設備，能夠實現小型化設計以及具有較好的成像性能。

為實現本發明的目的，本發明提供了如下的技術方案：

第一方面，本發明提供了一種光學系統，光學系統包括在光軸上依次設置的具有正曲折力的第一透鏡、具有負曲折力的第二透鏡、具有曲折力的第三透鏡和光路轉向件；所述光路轉向件包括入光面、第一反射面、第二反射面和出光面，所述入光面與所述第三透鏡的像側面相對并與所述出光面具有夾角，所述第二反射面與所述入光面連接并形成第一夾角，所述第一反射面與所述出光面連接并形成第二夾角，由所述第三透鏡像側面出射的光線自所述入光面進入所述光路轉向件內，并經所述第一反射面反射至所述第二反射面，經所述第二反射面反射至所述出光面出射；所述光學系統滿足條件式：250°α+β290°； 1.45Nd11.6；1.58Nd21.8；1.45Nd31.6；50Vd165；18Vd235； 50Vd365；其中，α為所述第一夾角的度數，β為所述第二夾角的度數，Nd1、 Nd2和Nd3分別為所述第一透鏡、所述第二透鏡和所述第三透鏡在波長為 587.5618nm的光線下的光學材料折射率，Vd1、Vd2和Vd3分別為所述第一透鏡、所述第二透鏡和所述第三透鏡在波長為587.5618nm的光線下的色散系數。

通過設置光路轉向件，光線能夠在光路轉向件內的第一反射面和第二反射面進行反射，有助于提升光學系統的焦距，利于遠景拍攝；此外，光路轉向件實現了光路折轉，實現了光學系統的小型化設計；同時，在光路轉向件的入光面一側設置第一透鏡、第二透鏡和第三透鏡，并合理配置各透鏡的曲折力、光學材料折射率和色散系數，提升了放大倍率，有助于提升光學系統的成像性能。

一種實施方式中，所述光學系統滿足條件式：22043*f/(2*ImgH)320；其中，f為所述光學系統的有效焦距，ImgH為所述光學系統最大視場角所對應的像高的一半。通過滿足43*f/(2*ImgH)的取值范圍在220和320之間，能保證光學系統在成像面固定的情況下等效焦距較大，有利于實現具有較大成像面的同時滿足長焦距的要求，進而可實現光學系統的遠距離攝像。