[發明專利]一種POSS基可逆熱致變色膜材料的合成方法有效
| 申請號： | 202110335655.4 | 申請日： | 2021-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN112980021B | 公開（公告）日： | 2022-04-12 |
| 發明（設計）人： | 劉麗;許耀元;黃玉東;龍軍;鐘正祥 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號： | C08J5/18 | 分類號： | C08J5/18;C08L83/08;C08K3/28;C08K3/16 |
| 代理公司： | 哈爾濱龍科專利代理有限公司 23206 | 代理人： | 王新雨 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 poss 可逆 變色 材料 合成 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種POSS基可逆熱致變色膜材料的合成方法，其特征在于：所述方法包括以下步驟：
步驟一、將POSS溶解在水中；所述POSS為多氨丙基POSS或多氨苯基POSS，POSS的官能團數量為2-8個；
步驟二、將鉻鹽加入到POSS水溶液中；所述鉻鹽為九水合硝酸鉻或六水合氯化鉻；
步驟三、20-40℃攪拌1～24h，20-80℃揮發溶劑，溶劑完全揮發后即得POSS基可逆熱致變色膜材料。
2.根據權利要求1所述的一種POSS基可逆熱致變色膜材料的合成方法，其特征在于：步驟一中，所述POSS與水的質量比為0.1～1：1。
3.根據權利要求1所述的一種POSS基可逆熱致變色膜材料的合成方法，其特征在于：步驟二中，所述鉻鹽與POSS的質量比為1～4：1～5。
4.根據權利要求1～3任一項所述的一種POSS基可逆熱致變色膜材料的合成方法，其特征在于：制備的POSS基膜材料在80～200℃保持30s-10min，發生顏色變化。
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