[發(fā)明專(zhuān)利]一種負(fù)氧離子機(jī)及其控制方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110333273.8
• 申請(qǐng)日: 2021-03-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113144267A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張帆
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 湖南第五空間健康科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A61L9/22
• 分類(lèi)號(hào): A61L9/22
• 代理公司: 深圳智趣知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44486
• 代理人: 崔艷崢

1.一種負(fù)離子機(jī)，其特征在于，包括：

空氣壓縮裝置、負(fù)離子產(chǎn)生裝置和控制系統(tǒng)；

所述控制系統(tǒng)與所述空氣壓縮裝置和所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置電性連接，用于控制所述空氣壓縮裝置和所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置的開(kāi)啟或關(guān)閉；

所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置對(duì)接所述空氣壓縮裝置，所述空氣壓縮裝置用于向所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置輸入壓縮空氣，所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置用于接收所述壓縮空氣并生成負(fù)離子氣體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)離子機(jī)，其特征在于：

所述空氣壓縮裝置包括第一進(jìn)氣管路、空氣壓縮主體和至少一個(gè)過(guò)濾降噪裝置；

所述過(guò)濾降噪裝置設(shè)置在所述空氣壓縮主體上方，所述第一進(jìn)氣管路用于為所述空氣壓縮主體輸入空氣，所述過(guò)濾降噪裝置包括降噪腔體以及設(shè)置在所述降噪腔體內(nèi)的過(guò)濾材料；

所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置包括儲(chǔ)水腔、發(fā)生器本體和第二進(jìn)氣管路；

所述發(fā)生器本體設(shè)置在所述儲(chǔ)水腔內(nèi)，所述第二進(jìn)氣管路一端連通所述儲(chǔ)水腔內(nèi)部，另一端連通所述空氣壓縮主體，用于向所述發(fā)生器本體輸入所述壓縮空氣；

所述發(fā)生器本體包括連通于所述儲(chǔ)水腔內(nèi)部的撞擊腔，所述撞擊腔的底壁上設(shè)置有連通于所述第二進(jìn)氣管路的撞擊孔，所述撞擊孔用于使由所述第二進(jìn)氣管路輸入的壓縮空氣能沖擊所述撞擊腔的腔壁，生成負(fù)離子氣體。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的負(fù)離子機(jī)，其特征在于：

所述控制系統(tǒng)包括預(yù)設(shè)信息系統(tǒng)和輸入單元；

所述預(yù)設(shè)信息系統(tǒng)內(nèi)儲(chǔ)存有所述空氣壓縮裝置和所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置對(duì)應(yīng)的運(yùn)行參數(shù)，所述輸入單元與所述預(yù)設(shè)信息系統(tǒng)電性連接，用于使所述空氣壓縮裝置和所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置按照所述輸入單元輸入的預(yù)設(shè)參數(shù)進(jìn)行工作。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的負(fù)離子機(jī)，其特征在于：

還包括第一外殼組件，所述空氣壓縮裝置與所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置均設(shè)置在所述第一外殼組件內(nèi)，所述控制系統(tǒng)設(shè)置在所述第一外殼組件上；

優(yōu)選地，所述第一外殼組件底部設(shè)置有滾輪，所述滾輪上設(shè)置有剎停裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的負(fù)離子機(jī)，其特征在于：

還包括第一散熱裝置，所述第一散熱裝置設(shè)置在所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置頂部，同時(shí)位于所述第一外殼組件內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的負(fù)離子機(jī)，其特征在于：

所述負(fù)離子產(chǎn)生裝置還包括內(nèi)殼，所述內(nèi)殼設(shè)置在所述儲(chǔ)水腔內(nèi)；

所述內(nèi)殼包括氣腔，所述氣腔套設(shè)在所述第二進(jìn)氣管路連通所述儲(chǔ)水腔的一端，所述發(fā)生器本體穿設(shè)于所述氣腔內(nèi)；

優(yōu)選地，所述發(fā)生器本體還包括臺(tái)階孔，所述臺(tái)階孔連通于所述撞擊孔，所述臺(tái)階孔與所述撞擊孔的孔徑尺寸比例至少為10：1；

優(yōu)選地，所述撞擊腔的兩側(cè)開(kāi)孔，用于連通所述儲(chǔ)水腔內(nèi)部；

優(yōu)選地，還包括密封圈，所述密封圈設(shè)置在所述發(fā)生器本體外壁。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的負(fù)離子機(jī)，其特征在于：

還包括第一殼體組件和換水裝置，所述第一殼體組件包覆設(shè)置在所述儲(chǔ)水腔外；

所述換水裝置包括卡接組件和第一彈性組件，所述卡接組件設(shè)置在所述第一殼體組件底部并抵接于所述儲(chǔ)水腔，用于能止擋所述儲(chǔ)水腔從所述第一殼體組件內(nèi)脫離；

所述第一彈性組件與所述儲(chǔ)水腔外壁彈性連接，用于對(duì)所述儲(chǔ)水腔積聚勢(shì)能，使所述儲(chǔ)水腔能從所述第一殼體組件內(nèi)彈出；

優(yōu)選地，所述卡接組件包括止擋塊和止擋開(kāi)關(guān)；

所述止擋塊設(shè)置在所述儲(chǔ)水腔的底部，所述止擋開(kāi)關(guān)與所述止擋塊按壓連接，用于控制所述止擋塊卡接或脫離所述儲(chǔ)水腔。