[發明專利]一種電子工業高濃度有機廢水處理設備及其方法在審
| 申請號: | 202110333023.4 | 申請日: | 2021-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN113003686A | 公開(公告)日: | 2021-06-22 |
| 發明(設計)人: | 徐小玲 | 申請(專利權)人: | 廣州百應實驗儀器科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/52 | 分類號: | C02F1/52;C02F1/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子工業 濃度 有機 廢水處理 設備 及其 方法 | ||
本發明公開了一種電子工業高濃度有機廢水處理設備及其方法,涉及電子工業技術領域。該一種電子工業高濃度有機廢水處理設備及其方法,包括廢水處理裝置,廢水處理裝置包括處理箱殼,處理箱殼的左內壁上部開設有入口一,入口一貫穿處理箱殼左壁,入口一的左端固定連接有入口管,入口管的形狀包括L型,入口管與入口一內部相通,處理箱殼的右內壁上部開設有入口二,入口二貫穿處理箱殼的右壁,處理箱殼的內部固定連接有處理箱,處理箱與入口一、入口二相連通,處理箱殼的下表面開設有凹槽,凹槽的上內壁嵌入固定連接有下口管,該一種電子工業高濃度有機廢水處理設備及其方法顯著的提高了裝置的分離效果。
技術領域
本發明涉及電子工業技術領域,具體為一種電子工業高濃度有機廢水處理設備及其方法。
背景技術
目前市面上大部分的高濃度有機廢水處理大都是使用有機生物降解法,但是和大部分的高濃度有機廢水不同的是電子工業高濃度有機廢水中含有大量的自褪膜廢液,如果依舊使用大部分處理高濃度有機廢水的方式,則最終很難將自褪膜廢液清理干凈,且自褪膜溶液的存在,也會給廢水中余下的顯影廢液的處理造成一定程度上的干擾,這樣的情況導致了電子工業高濃度有機廢水經常處理不干凈,處理自褪膜廢液始終是一個難題。
發明內容
本發明的目的在于提供一種電子工業高濃度有機廢水處理設備及其方法,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種電子工業高濃度有機廢水處理設備,包括廢水處理裝置,所述廢水處理裝置包括處理箱殼,所述處理箱殼的左內壁上部開設有入口一,所述入口一貫穿處理箱殼左壁,所述入口一的左端固定連接有入口管,所述入口管的形狀包括L型,所述入口管與入口一內部相通,所述處理箱殼的右內壁上部開設有入口二,所述入口二貫穿處理箱殼的右壁,所述處理箱殼的內部固定連接有處理箱,所述處理箱與入口一、入口二相連通,所述處理箱殼的下表面開設有凹槽,所述凹槽的上內壁嵌入固定連接有下口管,所述下口管的上端與處理箱的內部相連通,所述處理箱殼的左右壁上均開設有豎槽一和豎槽二,所述豎槽二的規格小于豎槽一的規格,所述豎槽二處于豎槽一的外側;
所述入口二的右側設置有加酸裝置;
所述廢水處理裝置的下方設置有分離裝置。
所述加酸裝置包括加酸管一,所述加酸管一的左端與入口二的內壁固定連接,所述加酸管一的右方設置有加酸管二,所述加酸管二的左端插入加酸管一的內部且與加酸管一的內壁固定連接,所述加酸管二與加酸管一適配,所述加酸管一的內壁上固定連接有圓盤,所述圓盤的右表面外側開設有環槽,所述圓盤的右表面中部開設有中心圓槽,所述中心圓槽的中部設置有中心柱,所述中心柱的外側套接有扇板,所述扇板由若干鉸接的扇葉組合而成,所述扇板在接近中心圓槽內壁的那一端與中心圓槽內壁通過滑軌滑動連接,所述扇板的右表面前側固定連接有開關板;
所述加酸管二的右端貫穿固定連接有酸性箱。
所述分離裝置包括分離箱,所述分離箱的上端開口正對下口管,所述分離箱的下內壁中部貫穿固定連接有出口管,所述出口管的下端口處安裝有開關閥,所述分離箱的左右側壁上均開設有側槽一。
優選的,所述分離箱的左右兩側均固定連接有輔助箱,所述輔助箱的內部充滿非牛頓液體,所述處理箱殼的下端固定連接輔助箱的上表面,兩個所述輔助箱在接近分離箱的那一面開設有側槽二,所述側槽二與側槽一正對。
優選的,所述側槽一的下內壁上開設有底槽一,所述底槽一貫穿分離箱,所述側槽二的下內壁上開設有底槽二,所述底槽二貫穿分離箱,所述側槽一的上內壁開設有頂槽一,所述頂槽一貫穿分離箱,所述側槽二的上內壁上開設有頂槽二,所述頂槽二貫穿分離箱。
優選的,所述分離箱的上端口內部設置有過濾網板,所述過濾網板與分離箱適配,所述過濾網板的左右兩端均固定連接有連接柱,所述連接柱在遠離過濾網板的那一端穿過側槽一和側槽二插入到輔助箱的內部,所述連接柱在遠離過濾網板的那一端固定連接有輔助塊,所述輔助塊的材質包括鐵磁性材質,所述輔助塊處于輔助箱的內部,所述輔助塊的規格小于輔助箱。
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