[發(fā)明專利]一種甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110332853.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113134583A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李軍;陳永奎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇普隆磁電有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B22D11/06 | 分類(lèi)號(hào): | B22D11/06 |
| 代理公司: | 蘇州市港澄專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32304 | 代理人: | 趙維達(dá) |
| 地址: | 226600 江蘇省南通市海安*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 甩片釹鐵硼甩帶 雙面 結(jié)晶 結(jié)構(gòu) | ||
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu),包括爐體,所述爐體內(nèi)設(shè)置有坩堝,所述坩堝內(nèi)鋼水通入設(shè)置于一側(cè)的中間包,所述中間包將均勻分布的鋼水導(dǎo)入銅輥表面形成甩帶,所述銅輥內(nèi)部連通有冷卻水,所述銅輥上方設(shè)置有噴頭,所述噴頭均勻噴射冷卻氣體于所述甩帶上表面。本發(fā)明通過(guò)在傳統(tǒng)單面冷結(jié)晶技術(shù)的基礎(chǔ)上增加一種自發(fā)明設(shè)備實(shí)現(xiàn)在鋼水澆鑄過(guò)程中達(dá)到雙面冷卻的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)冶金行業(yè),特別涉及一種甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)燒結(jié)釹鐵硼甩帶技術(shù)是高溫釹鐵硼合金鋼水通過(guò)水冷銅輥單面冷卻結(jié)晶來(lái)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品微觀金相結(jié)構(gòu)的方式。這樣的方式的不足是:甩片微觀柱狀晶尺寸分布不均勻,沿著冷卻方向柱狀晶的尺寸呈梯度增大,接觸銅輥冷卻面柱狀晶尺寸微小且易出現(xiàn)極冷等軸晶,遠(yuǎn)離銅輥面柱狀晶的尺寸會(huì)異常變大。貫穿晶比例比較少,枝晶、微晶以及富稀土相熔池比例比較大,由于過(guò)冷度不足甚至?xí)霈F(xiàn)少許α-Fe,這樣有缺陷的晶體微觀結(jié)構(gòu)對(duì)于高性能燒結(jié)釹鐵硼材料性能的提升極為不利。傳統(tǒng):①配方:Pr-Nd:30.1% B:0.92% Co:1.02%Cu:0.2% Ga:0.3% Zr:0.17 % Fe:余②金相見(jiàn)圖1;③磁性能結(jié)果剩磁14.46KGs,矯頑力14.2Koe。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu),。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案。
本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)了一種甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu),包括爐體,所述爐體內(nèi)設(shè)置有坩堝,所述坩堝內(nèi)鋼水通入設(shè)置于一側(cè)的中間包,所述中間包將均勻分布的鋼水導(dǎo)入銅輥表面形成甩帶,所述銅輥內(nèi)部連通有冷卻水,所述銅輥上方設(shè)置有噴頭,所述噴頭均勻噴射冷卻氣體于所述甩帶上表面。
優(yōu)選的,在上述的甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu)中,所述噴頭連通于冷卻器,所述冷卻器冷卻氦氣。
優(yōu)選的,在上述的甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu)中,所述銅輥下方設(shè)置有集料盤(pán)。
優(yōu)選的,在上述的甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu)中,所述爐體一側(cè)依次設(shè)置有羅茨泵以及機(jī)械泵,用于抽氣。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明技術(shù)方案的優(yōu)勢(shì)在于:通過(guò)在傳統(tǒng)單面冷結(jié)晶技術(shù)的基礎(chǔ)上增加一種自發(fā)明設(shè)備實(shí)現(xiàn)在鋼水澆鑄過(guò)程中達(dá)到雙面冷卻的目的。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本申請(qǐng)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)中記載的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1所示為背景技術(shù)中金相圖;
圖2所示為本發(fā)明具體實(shí)施例中得到的金相圖;
圖3所示為本發(fā)明具體實(shí)施例中甩片釹鐵硼甩帶雙面冷結(jié)晶結(jié)構(gòu)的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
在本發(fā)明的描述中,需要說(shuō)明的是,術(shù)語(yǔ)“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇普隆磁電有限公司,未經(jīng)江蘇普隆磁電有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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