[發(fā)明專利]一種微波等離子體去膠設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110331633.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113070288B | 公開(公告)日: | 2022-11-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬軍;邱晨光;張志勇;蔡晉輝;劉依婷;喬瓛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國計(jì)量大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B08B7/00 | 分類號(hào): | B08B7/00;B08B13/00;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570 | 代理人: | 劉杰 |
| 地址: | 310018 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微波 等離子體 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種微波等離子體去膠設(shè)備,包括微波裝置、去膠裝置、機(jī)架,進(jìn)氣法蘭、抽氣法蘭、真空計(jì),所述微波裝置包括微波模塊、微波屏蔽罩、石英腔,所述去膠裝置包括主腔體、轉(zhuǎn)接裝置、高密金屬網(wǎng)組合件、加熱盤、腔門,腔門通過鉸鏈與主腔體相連,主腔體固定在機(jī)架上,微波模塊與微波屏蔽罩相連,石英腔位于微波屏蔽罩內(nèi),通過法蘭固定在主腔體上表面,轉(zhuǎn)接裝置與石英腔通過法蘭相連,進(jìn)氣法蘭位于微波屏蔽罩上表面,抽氣法蘭位于主腔體下表面。將樣品放置于加熱盤上,關(guān)閉腔門,抽真空,充入氣體,進(jìn)行微波等離子體去膠,可根據(jù)樣品膠量的多少調(diào)節(jié)到達(dá)樣品表面的等離子體強(qiáng)度,低損傷、去膠效率高。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及晶圓去膠技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種微波等離子體去膠設(shè)備。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體器件的制備包括薄膜沉積、光刻、刻蝕等步驟,其中去除光刻膠是其中較為重要的步驟。以往常用的化學(xué)去膠方法具有許多缺點(diǎn),如會(huì)產(chǎn)生廢液,對(duì)環(huán)境造成污染等。等離子體去膠為干法去膠,能夠克服上述缺點(diǎn),等離子去膠的原理是:利用產(chǎn)生的等離子態(tài)的氧原子和光刻膠中的碳?xì)湮镔|(zhì)發(fā)生反應(yīng),生成揮發(fā)性氣態(tài)物質(zhì),如二氧化碳和水,從而達(dá)到去膠的目的。而目前已有的等離子去膠設(shè)備存在的問題有:等離子體強(qiáng)度難以有效控制,影響去膠效率且會(huì)對(duì)晶圓造成損傷。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)目前已有的光刻膠去除技術(shù)存在的不足,本發(fā)明的目的是提供一種微波等離子體去膠設(shè)備,解決現(xiàn)有等離子去膠設(shè)備中等離子體強(qiáng)度難以控制的問題。
本發(fā)明的目的通過以下方式來實(shí)現(xiàn):
一種微波等離子體去膠設(shè)備,包括微波裝置、去膠裝置、機(jī)架,進(jìn)氣法蘭、抽氣法蘭、真空計(jì),所述微波裝置包括微波模塊、微波屏蔽罩、石英腔,所述去膠裝置包括主腔體、轉(zhuǎn)接裝置、高密金屬網(wǎng)組合件、加熱盤、腔門,腔門通過鉸鏈與主腔體相連,主腔體固定在機(jī)架上,微波模塊與微波屏蔽罩相連,石英腔位于微波屏蔽罩內(nèi),通過法蘭固定在主腔體上表面,轉(zhuǎn)接裝置與石英腔通過法蘭相連,進(jìn)氣法蘭位于微波屏蔽罩上表面,抽氣法蘭位于主腔體下表面。
進(jìn)一步的,所述轉(zhuǎn)接裝置由固定筒、活動(dòng)筒構(gòu)成,活動(dòng)筒與固定筒通過螺紋連接,其與加熱盤之間的距離可以通過螺紋調(diào)節(jié)。
進(jìn)一步的,固定筒的高度為主腔體上內(nèi)表面與加熱盤上表面距離的一半,活動(dòng)筒的高度小于固定筒的高度,保證調(diào)節(jié)位置可定位到。
進(jìn)一步的,所述高密金屬網(wǎng)組合件由環(huán)形壓套和高密金屬網(wǎng)構(gòu)成,如此便于安裝和拆卸高密金屬網(wǎng)。
進(jìn)一步的,所述安裝套環(huán)固定在活動(dòng)筒上,高密金屬網(wǎng)組合件通過螺釘固定在安裝套環(huán)上,高密金屬網(wǎng)可以減弱等離子體的強(qiáng)度,進(jìn)而降低等離子體對(duì)樣品的損傷。
進(jìn)一步的,所述加熱盤固定在主腔體底部,加熱盤內(nèi)部裝有環(huán)形電阻絲,環(huán)形電阻絲位于腔室外部,外接電源工作,以便對(duì)樣品均勻加熱,且外加熱方式可避免對(duì)等離子體造成污染。
進(jìn)一步的,所述進(jìn)氣法蘭和抽氣法蘭端口均安裝有勻氣盤,以便充氣和抽氣時(shí)保持氣流均勻。
進(jìn)一步的,所述勻氣盤為均勻分布著小孔的圓盤結(jié)構(gòu),以使氣體通入更加均勻。
進(jìn)一步的,所述微波模塊包括微波電源,微波波導(dǎo)以及諧振腔,微波波導(dǎo)連接著微波電源和諧振腔,諧振腔包圍著石英腔,保證微波能量導(dǎo)入石英腔。
進(jìn)一步的,所述抽氣法蘭上固定有真空計(jì),以便測量主腔體內(nèi)的真空度,進(jìn)而控制抽氣壓力。
進(jìn)一步的,所述進(jìn)氣法蘭外接裝有氧氣的鋼瓶,抽氣法蘭外接真空泵。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國計(jì)量大學(xué),未經(jīng)中國計(jì)量大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110331633.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





