[發明專利]一種pn結型氧化鎵基自供電紫外探測器及其制備方法在審
| 申請號: | 202110329566.9 | 申請日: | 2021-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN113113499A | 公開(公告)日: | 2021-07-13 |
| 發明(設計)人: | 郭道友;王順利;王亞超;吳小平 | 申請(專利權)人: | 金華紫芯科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/109;H01L31/18;H01L21/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 321042 浙江省金華市金*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 pn 氧化 供電 紫外 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種pn結型氧化鎵基自供電紫外探測器,其特征在于,包含襯底、p-Cr2O3層、n-Ga2O3層、雙層石墨烯層、第一金屬電極和第二金屬電極,其中,所述p-Cr2O3層位于所述襯底的一側,所述n-Ga2O3層的面積小于所述述p-Cr2O3層的面積,所述n-Ga2O3層和所述第二金屬電極均位于所述p-Cr2O3層背離所述襯底的一側,所述n-Ga2O3層和所述第二金屬電極不直接接觸;所述雙層石墨烯層位于所述n-Ga2O3層背離所述p-Cr2O3層一側,所述第一金屬電極位于所述雙層石墨烯層背離所述n-Ga2O3層一側,所述p-Cr2O3層和所述n-Ga2O3層形成Cr2O3/Ga2O3pn結。
2.根據權利要求1所述的一種pn結型氧化鎵基自供電紫外探測器,其特征在于,所述p-Cr2O3層的厚度為500nm~10μm,所述p-Cr2O3層通過磁控濺射的方法生長于所述襯底上,其中,濺射壓強在1.0~3.0Pa范圍內,濺射功率在100W~300W范圍內,濺射氣體流量比O2/Ar=0%~100%,濺射時間在1h~10h范圍內,濺射溫度為室溫。
3.根據權利要求1所述的一種pn結型氧化鎵基自供電紫外探測器,其特征在于,所述n-Ga2O3層的厚度為20nm~500nm,所述n-Ga2O3層通過磁控濺射的方法生長于所述p-Cr2O3層上,其中,濺射壓強在1.0~3.0Pa范圍內,濺射功率在50W~300W范圍內,濺射氣體Ar流量為5sccm~20sccm,濺射時間在0.1h~4h范圍內,濺射溫度為室溫。
4.根據權利要求1所述的一種pn結型氧化鎵基自供電紫外探測器,其特征在于,所述襯底為柔性襯底或剛性襯底。
5.根據權利要求1所述的一種pn結型氧化鎵基自供電紫外探測器,其特征在于,所述第一金屬電極和第二金屬電極分別為Au、Pt、Ag、In、Ti、Ni和Cu中的任意一種或幾種的組合。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





