[發明專利]一種去塊濾波優化方法、裝置、設備及介質

在審

• 申請號: 202110325945.0
• 申請日: 2021-03-26
• 公開（公告）號: CN113132725A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 梁凡;王湟
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: H04N19/117
• 分類號: H04N19/117;H04N19/124;H04N19/154;H04N19/186
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 黎揚鵬

1.一種去塊濾波優化方法，其特征在于，包括：

獲取待濾波的編碼單元或重建圖像；

對所述編碼單元或所述重建圖像進行拉普拉斯變換，得到對應像素點的拉普拉斯變換值；

根據所述拉普拉斯變換值確定量化參數；

當所述拉普拉斯變換值滿足預設的前置條件時，根據所述量化參數確定強度判定閾值；

根據所述強度判定閾值確定目標邊界強度的目標判定條件；

根據所述目標判定條件對所述待濾波的編碼單元或重建圖像進行邊界強度判定，確定目標邊界強度；

根據所述目標邊界強度執行去塊濾波處理，得到去塊濾波結果。

2.根據權利要求1所述的一種去塊濾波優化方法，其特征在于，所述對所述編碼單元或所述重建圖像進行拉普拉斯變換，得到對應像素點的拉普拉斯變換值，包括：

獲取拉普拉斯的模板核；

根據所述模板核確定所述拉普拉斯的拓展核；

根據所述拓展核對所述編碼單元或者所述重建圖像進行圖像卷積處理，得到對應像素點的拉普拉斯變換值。

3.根據權利要求1所述的一種去塊濾波優化方法，其特征在于，所述根據所述拉普拉斯變換值確定量化參數，包括：

確定亮度編碼單元的第一量化參數和色度編碼單元的第二量化參數；

根據所述第一量化參數和所述第二量化參數，計算平均量化參數。

4.根據權利要求3所述的一種去塊濾波優化方法，其特征在于，所述當所述拉普拉斯變換值滿足預設的前置條件時，根據所述量化參數確定強度判定閾值，包括：

根據所述平均量化參數以及所述編碼單元或所述重建圖像的像素位深計算第一索引表和第二索引表；

通過所述第一索引表和所述第二索引表確定第一邊界閾值和第二邊界閾值；

根據所述第一邊界閾值、所述第二邊界閾值以及所述像素位深，計算第一邊界值和第二邊界值；

根據所述第一邊界值和所述第二邊界值確定強度判定閾值。

5.根據權利要求1所述的一種去塊濾波優化方法，其特征在于，所述根據所述目標判定條件對所述待濾波的編碼單元或重建圖像進行邊界強度判定，確定目標邊界強度，包括：

根據邊界兩邊灰度值的變化曲率確定變化程度；

根據所述變化程度狀況確定目標邊界強度。

6.根據權利要求5所述的一種去塊濾波優化方法，其特征在于，所述根據所述變化程度確定目標邊界強度，包括：

當所述變化程度等于6時，對所述目標邊界強度的判定條件進行修正，確定新的判定限制；

根據所述新的判定限制，對所述目標邊界強度進行判定，確定新的目標邊界強度。

7.根據權利要求1所述的一種去塊濾波優化方法，其特征在于，所述根據所述目標判定條件對所述待濾波的編碼單元或重建圖像進行邊界強度判定，確定目標邊界強度，還包括：

當所述待濾波的編碼單元或重建圖像均不滿足預設的第一前置條件和預設的第二前置條件時，執行原始目標邊界強度判定方法，確定目標邊界強度。

8.一種去塊濾波優化裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取待濾波的編碼單元或重建圖像；

拉普拉斯變換模塊，用于對所述編碼單元或所述重建圖像進行拉普拉斯變換，得到對應像素點的拉普拉斯變換值；

第一確定模塊，用于根據所述拉普拉斯變換值確定量化參數；

第二確定模塊，用于當所述拉普拉斯變換值滿足預設的前置條件時，根據所述量化參數確定強度判定閾值；

第三確定模塊，用于根據所述強度判定閾值確定目標邊界強度的目標判定條件；

第四確定模塊，用于根據所述目標判定條件對所述待濾波的編碼單元或重建圖像進行邊界強度判定，確定目標邊界強度；

去塊濾波處理模塊，用于根據所述目標邊界強度執行去塊濾波處理，得到去塊濾波結果。