[發(fā)明專利]用于沖擊擾流氣膜復(fù)合冷卻的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110323593.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113123832B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱天;丁水汀;高自強(qiáng);徐陽(yáng);劉傳凱;劉曉靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類號(hào): | F01D5/08 | 分類號(hào): | F01D5/08 |
| 代理公司: | 北京航智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11668 | 代理人: | 黃川;史繼穎 |
| 地址: | 100191*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 沖擊 流氣 復(fù)合 冷卻 雙層 字形 擾流柱 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種用于沖擊擾流氣膜復(fù)合冷卻的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu),沿流體流動(dòng)方向依次包括沖擊板、沖擊腔和氣膜板;其特征在于,所述沖擊腔包括陣列無(wú)間隔排布的多個(gè)基元,各基元包括相對(duì)布置的兩個(gè)層壁、供流體流入所述基元的沖擊孔、人字形擾流柱和供流體流出所述基元的氣膜孔;所述沖擊孔、所述人字形擾流柱和所述氣膜孔布置于所述兩個(gè)層壁之間;所述沖擊孔開(kāi)設(shè)于所述沖擊板上且靠近所述兩個(gè)層壁之一;所述氣膜孔開(kāi)設(shè)于所述氣膜板上且靠近所述兩個(gè)層壁另一個(gè);
其中,所述人字形擾流柱包括頂部和從所述頂部分別向兩側(cè)且由上向下向外傾斜擴(kuò)展的兩個(gè)側(cè)翼;所述氣膜孔布置于所述頂部上方;各側(cè)翼分別與所述兩個(gè)層壁形成減縮通道,所述沖擊孔布置于所述兩個(gè)側(cè)翼下方并且配置成使得從所述沖擊孔流入流體經(jīng)過(guò)所述減縮通道流向所述氣膜孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu),其特征在于,各基元包括1-2個(gè)沖擊孔、1個(gè)人字形擾流柱和滿足最小加工間距要求的多個(gè)氣膜孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu),其特征在于,2個(gè)沖擊孔布置于所述人字形擾流柱正下方,多個(gè)氣膜孔均布于所述人字形擾流柱正上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu),其特征在于,各基元大小具有縱向長(zhǎng)度3.72mm~6.4mm,軸向長(zhǎng)度3mm~6mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu),其特征在于,所述兩個(gè)側(cè)翼的寬度為0.4mm~0.8mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的雙層壁人字形擾流柱結(jié)構(gòu),其特征在于,所述沖擊孔和所述氣膜孔的孔徑為0.4mm~0.5mm。
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