[發明專利]一種紫銅排的鍍錫裝置有效
| 申請號: | 202110323343.1 | 申請日: | 2021-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN113073284B | 公開(公告)日: | 2022-06-14 |
| 發明(設計)人: | 許建中 | 申請(專利權)人: | 貴溪紅石金屬有限公司 |
| 主分類號: | C23C4/08 | 分類號: | C23C4/08;C23C4/123;C23C4/18 |
| 代理公司: | 南昌中擎知識產權代理事務所(普通合伙) 36148 | 代理人: | 韓平英 |
| 地址: | 335000 江西省*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫銅 鍍錫 裝置 | ||
本發明公開了一種紫銅排的鍍錫裝置,包括箱體和烘干箱,所述箱體內壁的一側轉動連接有活動桿,并且活動桿的一端貫穿箱體并延伸至箱體的外部,所述活動桿延伸至箱體外部一端的表面固定連接有皮帶輪,并且活動桿延伸至箱體外部的一端固定連接有第一電機,所述箱體的頂部固定連接有加熱爐,本發明涉及紫銅排鍍錫技術領域。該紫銅排的鍍錫裝置,通過箱體內壁的一側轉動連接有活動桿,鍍錫完成之后方便將紫銅排取出,便于進行操作,而且整體采用自動化的操作,減輕了操作人員的勞動強度,通過箱體的內部滑動連接有收集框,還可以對沒有吸附在紫銅排上的錫液進行回收再利用,在回收的時候,將錫液里面的錫渣進行過濾。
技術領域
本發明涉及紫銅排鍍錫技術領域,具體為一種紫銅排的鍍錫裝置。
背景技術
紫銅,又名紅銅,是銅單質,因其顏色為紫紅色而得名,各種性質見詞條“銅”,紫銅是工業純銅,其熔點為1083℃,無同素異構轉變,相對密度為8.9,為鎂的五倍,同體積的質量比普通鋼重約15%,紫銅因其具有玫瑰紅色,表面形成氧化膜后呈紫色,故一般稱為紫銅,它是含有一定氧的銅,因而又稱含氧銅,紅銅即純銅,又名紫銅,純銅的密度為8.96g/cm3,熔點為1083℃,具有很好的導電性和導熱性,塑性極好,易于熱壓和冷壓力加工,大量用于制造電線、電纜、電刷、電火花專用蝕電蝕銅等要求導電性良好的產品,紫銅的電導率和熱導率僅次于銀,廣泛用于制作導電、導熱器材,紫銅在大氣、海水和某些非氧化性酸(鹽酸、稀硫酸)、堿、鹽溶液及多種有機酸(醋酸、檸檬酸)中,有良好的耐蝕性,用于化學工業,另外,紫銅有良好的焊接性,可經冷、熱塑性加工制成各種半成品和成品,鍍錫及其合金是一種可焊性良好并具有一定耐蝕能力的涂層,電子元件、印制線路板中廣泛應用。錫層的制備除熱浸、噴涂等物理法外,電鍍、浸鍍及化學鍍等方法因簡單易行已在工業上廣泛應用。
紫銅排在生產的過程中,需要進行鍍錫操作,但一般在鍍錫完成之后,不方便進行取料,而且鍍錫完成還需要放置進烘干箱進行烘干,操作步驟較為繁瑣,不方便進行物料的轉移,容易將物料表面的錫造成磨損,影響最終的質量,而且鍍錫工序多余的錫料不能進行回收利用,造成資源的浪費。
發明內容
針對現有技術的不足,本發明提供了一種紫銅排的鍍錫裝置,解決了紫銅排在生產的過程中,需要進行鍍錫操作,但一般在鍍錫完成之后,不方便進行取料,而且鍍錫完成還需要放置進烘干箱進行烘干,操作步驟較為繁瑣,不方便進行物料的轉移,容易將物料表面的錫造成磨損,影響最終的質量,而且鍍錫工序多余的錫料不能進行回收利用,造成資源的浪費的問題。
為實現以上目的,本發明通過以下技術方案予以實現:一種紫銅排的鍍錫裝置,包括箱體和烘干箱,所述箱體內壁的一側轉動連接有活動桿,并且活動桿的一端貫穿箱體并延伸至箱體的外部,所述活動桿延伸至箱體外部一端的表面固定連接有皮帶輪,并且活動桿延伸至箱體外部的一端固定連接有第一電機,所述箱體的頂部固定連接有加熱爐,并且加熱爐的底部連通有豎管,所述豎管的底端貫穿箱體并延伸至箱體的內部,所述活動桿的表面且位于箱體的內部固定連接有滾筒,所述烘干箱背面的兩側均固定連接有U型板,并且U型板內壁的底部固定連接有第二電機,所述第二電機的輸出端固定連接有螺紋桿,并且螺紋桿的表面螺紋連接有滑塊,所述滑塊的表面固定連接有固定桿,所述固定桿的一端貫穿烘干箱并延伸至烘干箱的內部,所述固定桿延伸至烘干箱內部的一端固定連接有橫板,所述橫板表面的底部固定連接有L型板。
優選的,所述箱體的表面固定連接有支撐板,并且支撐板的頂部與第一電機的底部固定連接。
優選的,所述皮帶輪的表面通過皮帶傳動連接,并且加熱爐的表面設置有加熱管,所述豎管延伸至箱體內部的一端連通有橫管,并且橫管表面的底部固定連接有噴頭。
優選的,所述滾筒的表面設置有防滑套,并且螺紋桿的頂端與U型板內壁的頂部轉動連接。
優選的,所述烘干箱內壁背面的兩側均開設有與固定桿相適配的滑槽,并且滑塊的兩側均固定連接有連接板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





