[發明專利]一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜及其制備方法在審
| 申請號: | 202110321551.8 | 申請日: | 2021-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN113045984A | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 徐立國;馬延彬;李飛;王見強;孫何鑫;林陽 | 申請(專利權)人: | 中核四川環保工程有限責任公司 |
| 主分類號: | C09D175/14 | 分類號: | C09D175/14;C09D109/00;C09D171/02;C09D175/04;C09D5/20;C09D7/61;C09D7/65;C09D7/20 |
| 代理公司: | 成都眾恒智合專利代理事務所(普通合伙) 51239 | 代理人: | 胡曉 |
| 地址: | 628017*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 放射性 表面 去污 用速干 高強 剝離 及其 制備 方法 | ||
1.一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,由如下重量份的原料制備:成膜物質20~30份、工業酒精30~40份、去污劑5~10份、增強纖維5~10份、分散劑0.4~1份、消泡劑0.1~1份、成膜助劑1~2份、去離子水20~30份,其中,所述成膜物質為脂肪族聚氨酯丙烯酸、聚異戊二烯高彈性乳液、聚丙烯二醇或水性聚氨酯樹脂中的至少一種。
2.根據權利要求1所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,所述去污劑由硝酸和硝酸鈰銨混合攪拌10~30min后制得。
3.根據權利要求2所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,所述硝酸鈰銨濃度為0.1~1mol/L,所述硝酸濃度為2mol/L,所述硝酸鈰銨與硝酸的加入的體積比為1:1。
4.根據權利要求1所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,所述增強纖維為聚丙烯纖維和玻璃纖維中的至少一種,其中,所述聚丙烯纖維和玻璃纖維的纖維長度均為3~18mm。
5.根據權利要求1所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,所述分散劑為納米氧化鈦粉和白炭灰中的至少一種。
6.根據權利要求1所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,所述消泡劑為改性聚醚硅。
7.根據權利要求1所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜,其特征在于,所述成膜助劑為2-碘酰基苯甲酸。
8.一種制備如權利要求1所述的一種放射性表面去污用速干高強可剝離膜的方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、合成成膜劑
向燒杯中按照比例依次加入去離子水和工業酒精,攪拌3~10min,后再依次加入成膜物質、消泡劑、分散劑,攪拌30~90min,獲得成膜劑;
S2、合成放射性表面去污用速干高強可剝離膜
取成膜劑,依次緩慢加入去污劑、增強纖維后,攪拌10min~30min,制得放射性表面去污用速干高強可剝離膜。
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