[發(fā)明專(zhuān)利]一種自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110318588.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113045218A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程小平;吳杰;宋溪明;楊賀 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 遼寧中迅科技有限公司;遼寧一一三(集團(tuán))化工有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C03C17/34 | 分類(lèi)號(hào): | C03C17/34;C03C17/25;C03C17/00 |
| 代理公司: | 沈陽(yáng)優(yōu)普達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 張志偉 |
| 地址: | 117100 遼寧省本*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 清潔 折射率 可調(diào) 減反增 透光 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,雙層折射率可調(diào)薄膜通過(guò)溶液化學(xué)浸漬提拉法沉積于玻璃基板的表面,加熱固化后,形成非導(dǎo)電具有增透性能的鏡面玻璃,具體過(guò)程如下:
首先鍍一層非導(dǎo)電的具有高折射率nH的薄膜,其折射率在1.6~1.96之間,加熱固化后,形成部分反射、部分透射的樣品;其次鍍一層非導(dǎo)電的具有低折射率nL的薄膜,其折射率在1.3~1.59之間,加熱固化后,形成可增透的光學(xué)薄膜樣品。
2.按照權(quán)利要求1所述的自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,玻璃基板是單塊的玻璃片,厚度為0.2~20毫米。
3.按照權(quán)利要求2所述的自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,優(yōu)選的,玻璃基板厚度為0.5~12毫米。
4.按照權(quán)利要求1所述的自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,具有高折射率nH的薄膜材質(zhì)為T(mén)iO2,具有低折射率nL的薄膜材質(zhì)為表面氟化的TiO2。
5.按照權(quán)利要求4所述的自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,TiO2為可生成高折射率氧化物,通過(guò)非水溶膠-凝膠法在密閉反應(yīng)器系統(tǒng)中制備銳鈦礦納米顆粒,TiO2納米顆粒的制備步驟是:
(1)使用異丙醇鈦?zhàn)鳛榍膀?qū)體加入到溶劑乙醇中,通過(guò)水解反應(yīng)產(chǎn)生TiO2納米顆粒,水解反應(yīng)工藝為:室溫下,攪拌器轉(zhuǎn)速為240~260rpm;
(2)在6000~8000rpm下離心5~15分鐘,從水解反應(yīng)介質(zhì)中回收得到的TiO2納米顆粒,用氯仿洗滌兩次;
(3)將洗滌后沉淀的TiO2納米顆粒添加入到乙醇中,在攪拌下添加己二酸,己二酸添加量以開(kāi)始溶解TiO2顆粒為止,保持?jǐn)嚢?.5~2小時(shí)使其混合均勻完全溶解形成分散液,填充粒度180~190μm的研磨介質(zhì)氧化鋯,使氧化鋯占分散液體積的40~60%;轉(zhuǎn)移至不銹鋼研磨容器中,使用行星式球磨機(jī)以200~400rpm的轉(zhuǎn)速運(yùn)轉(zhuǎn)5~7小時(shí);
(4)收集所得的銳鈦礦分散液,作為制備第一層薄膜的溶膠液。
6.按照權(quán)利要求5所述的自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,第一層薄膜的制備過(guò)程如下:采用浸漬提拉技術(shù),提拉速度控制1~100mm/秒,pH值分別配制為2~4,TiO2濃度為0.25~0.35mol/L,基片在溶膠中浸漬30~50s,將玻璃基材涂上銳鈦礦分散液,110~130℃干燥1~3h后,成膜備用。
7.按照權(quán)利要求4所述的自清潔折射率可調(diào)減反增透光學(xué)薄膜的制備方法,其特征在于,表面氟化的TiO2納米顆粒制備步驟是:
(1)將TiO2納米顆粒在110~130℃下干燥1~3小時(shí),在室溫超聲振動(dòng)下分散在無(wú)水甲苯中5~15分鐘形成TiO2漿液,TiO2納米顆粒的濃度為40~60wt%;
(2)將TiO2漿液轉(zhuǎn)移到帶攪拌器的容器中,加入全氟辛基三乙氧基硅烷對(duì)TiO2納米顆粒進(jìn)行改性,全氟辛基三乙氧基硅烷的重量為T(mén)iO2納米顆粒重量的20~40%,在50~70℃下以200~400rpm的轉(zhuǎn)速持續(xù)攪拌3~5h形成改性的TiO2漿液;
(3)將改性的TiO2漿液過(guò)濾,干燥,用乙醇進(jìn)行提取純化、老化4~6天,以除去物理吸附在顆粒表面的全氟辛基三乙氧基硅烷,在真空烤箱中40~60℃除去溶劑,最終獲得表面氟化的TiO2納米顆粒,用于第二層薄膜的制備。
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