[發明專利]成像系統、攝像模組及電子設備

有效

• 申請號: 202110316622.5
• 申請日: 2021-03-24
• 公開（公告）號: CN112965212B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 譚怡翔;李明
• 申請（專利權）人: 江西晶超光學有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18;H04N23/55
• 代理公司: 北京恒博知識產權代理有限公司 11528
• 代理人: 范勝祥

1.一種成像系統，其特征在于，所述成像系統沿光軸從物側到像側依次包括：

光闌，位于所述成像系統物側；

第一透鏡，所述第一透鏡具有正屈折力，所述第一透鏡的物側面光軸處為凸面，所述第一透鏡的物側面與像側面的圓周處均為凸面；

第二透鏡，所述第二透鏡具有負屈折力，所述第二透鏡的像側面于光軸處為凹面，于圓周處為凹面，所述第二透鏡的物側面于圓周處為凸面；

第三透鏡，所述第三透鏡具有屈折力，所述第三透鏡的物側面于圓周處為凹面，所述第三透鏡的像側面于圓周處為凸面；

第四透鏡，所述第四透鏡具有正屈折力，所述第四透鏡的像側面于近光軸處為凸面，于圓周處為凸面，所述第四透鏡物側面圓周處為凹面；

第五透鏡，所述第五透鏡具有負屈折力，所述第五透鏡的物側面于近光軸處為凹面，于圓周處為凹面，所述第五透鏡的像側面于近光軸處為凹面，于圓周處為凸面；

具有光焦度的透鏡的數量為上述五片；

所述成像系統滿足以下條件式：0GL/TTL0.1；

其中，GL為所述光闌至所述第一透鏡的物側面于光軸上的距離，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述成像系統的成像面于光軸上的距離。

2.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

0.2SD11/ImgH0.28；

其中，SD11為所述第一透鏡的物側面的有效半孔徑，ImgH為所述成像系統的像高。

3.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

15SD11/AT12≤21.901；

其中，SD11為所述第一透鏡的物側面的有效半孔徑，AT12為所述第一透鏡的像側面與所述第二透鏡的物側面于光軸上的距離。

4.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

1.336≤(|R42|+|R51|)/f≤7.9012/4.13；

其中，R42為所述第四透鏡的像側面于近光軸處的曲率半徑，R51為所述第五透鏡的物側面于近光軸處的曲率半徑，f為所述成像系統的有效焦距。

5.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

4.3/3.77≤(|f4|+|f5|)/f≤5.842/4.13；

其中，f4為所述第四透鏡的有效焦距，f5為所述第五透鏡的有效焦距，f為所述成像系統的有效焦距。

6.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

0.280≤(|CT1|+|CT2|+|CT3|)/TTL≤0.321；

其中，CT1為所述第一透鏡于光軸上的厚度，CT2為所述第二透鏡于光軸上的厚度，CT3為所述第三透鏡于光軸上的厚度。

7.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

1＜|R51|/|f5|＜3；

其中，R51為所述第五透鏡的物側面于近光軸處的曲率半徑，f5為所述第五透鏡的有效焦距。

8.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

1AT45/ET455；

其中，AT45為所述第四透鏡與所述第五透鏡于光軸上的空氣間隙，ET45為所述第四透鏡的像側面的光學有效徑邊緣至所述第五透鏡的物側面的光學有效徑邊緣于光軸上的距離。

9.如權利要求1所述的成像系統，其特征在于，所述成像系統還滿足以下條件式：

2AT23/ET238；

其中，AT23為所述第二透鏡與所述第三透鏡于光軸上的空氣間隙，ET23為所述第二透鏡的像側面的光學有效徑邊緣至所述第三透鏡的物側面的光學有效徑邊緣于光軸上的距離。