[發(fā)明專利]在圖形處理系統(tǒng)中對基元進(jìn)行圖塊化在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110312488.1 | 申請日: | 2016-04-06 |
| 公開(公告)號: | CN113077531A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | X·楊;R·席德 | 申請(專利權(quán))人: | 想象技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/40 | 分類號: | G06T11/40 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 李春輝 |
| 地址: | 英國赫*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖形 處理 系統(tǒng) 進(jìn)行 圖塊化 | ||
1.一種在圖形處理系統(tǒng)中處理基元的方法,所述方法包括對所述基元進(jìn)行圖塊化以確定所述基元處于渲染空間的多個(gè)圖塊中的哪些圖塊中,以及渲染所述圖塊中的所述基元,其中所述對所述基元進(jìn)行圖塊化包括:
確定針對所述基元的邊界框;
針對在所述邊界框中的圖塊的線之間的至少一個(gè)圖塊邊界中的每個(gè)圖塊邊界,確定所述圖塊邊界與所述基元的邊緣的交叉點(diǎn);以及
使用所確定的交叉點(diǎn)來確定所述基元處于所述邊界框中的所述圖塊中的哪些圖塊中,
其中所述確定所述圖塊邊界與所述基元的邊緣的交叉點(diǎn)包括:
針對所述基元的每個(gè)邊緣,除非所述邊緣平行于所述圖塊邊界,否則確定所述圖塊邊界與限定所述基元的所述邊緣的邊緣線的初始交叉點(diǎn);以及
標(biāo)識那些初始交叉點(diǎn)中的哪些初始交叉點(diǎn)位于所述基元的所述邊緣上,
其中所標(biāo)識的初始交叉點(diǎn)是被用于確定所述基元處于所述邊界框中的所述圖塊中的哪些圖塊中的所確定的交叉點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中使用所確定的交叉點(diǎn)來確定所述基元處于所述邊界框中的所述圖塊中的哪些圖塊中的步驟包括針對圖塊的線:
通過找到所述線中的第一圖塊,來確定圖塊的所述線中的開始圖塊,所述第一圖塊包括在其邊界上的所確定的交叉點(diǎn)或者包括所述基元的頂點(diǎn);
通過找到所述線中的最后圖塊,來確定圖塊的所述線中的結(jié)束圖塊,所述最后圖塊包括在其邊界上的所確定的交叉點(diǎn)或者包括所述基元的頂點(diǎn);以及
確定所述基元處于所述線中的在所述開始圖塊與所述結(jié)束圖塊之間并且包括所述開始圖塊和所述結(jié)束圖塊的圖塊中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中圖塊的所述線是圖塊的行或列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中所述基元被確定為沒有處于未與所述邊界框至少部分地重疊的圖塊中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中所述邊界框被剪裁使得所述邊界框不延伸到所述渲染空間的所述邊緣以外。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,還包括在確定所述基元處于特定圖塊中的情況下將所述基元的基元標(biāo)識符包含在針對所述特定圖塊的顯示列表中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,還包括針對所述渲染空間的所述圖塊中的每個(gè)圖塊,根據(jù)針對所述圖塊的所述顯示列表來渲染所述圖塊中的所述基元。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中所述標(biāo)識那些初始交叉點(diǎn)中的哪些初始交叉點(diǎn)位于所述基元的所述邊緣上包括針對所述初始交叉點(diǎn)中的每個(gè)初始交叉點(diǎn):
沿所述圖塊邊界前進(jìn),并且確定所述初始交叉點(diǎn)兩側(cè)的點(diǎn)是在所述基元的內(nèi)部還是外部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中如果所述初始交叉點(diǎn)兩側(cè)的點(diǎn)是在所述基元的內(nèi)部還是外部的所述確定針對所述初始交叉點(diǎn)兩側(cè)的兩個(gè)點(diǎn)是不同的,則所述初始交叉點(diǎn)是所述基元的所述邊緣上的交叉點(diǎn),然而如果所述確定針對所述初始交叉點(diǎn)兩側(cè)的所述兩個(gè)點(diǎn)是相同的,則所述初始交叉點(diǎn)不是所述基元的所述邊緣上的交叉點(diǎn)。
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