[發(fā)明專利]一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備

在審

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• 申請日: 2021-03-24
• 公開（公告）號: CN113041690A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設計）人: 黃美玲
• 申請（專利權）人: 黃美玲
• 主分類號: B01D33/03
• 分類號: B01D33/03;B01D33/54;B01D33/74;B01D33/80
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其結構包括機體(1)、漿筒(2)、成型裝置(3)、控制盤(4)，所述漿筒(2)底端固定在機體(1)靠右端的上表面，所述成型裝置(3)位于漿筒(2)的左側位置，所述控制盤(4)底面安裝在機體(1)正面的頂部位置，其特征在于：

所述成型裝置(3)包括成型筒(31)、壓塊(32)、進漿口(33)、排液口(34)、濾網(wǎng)(35)、推動機構(36)，所述壓塊(32)底端套在成型筒(31)內頂部，所述進漿口(33)貫穿成型筒(31)靠頂端的右側面和內壁之間，所述排液口(34)穿過成型筒(31)靠底端的左側面和內壁之間，所述濾網(wǎng)(35)兩端安裝在成型筒(31)中部的兩側內壁，所述推動機構(36)頂端固定在濾網(wǎng)(35)下表面。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述推動機構(36)包括銜接塊(361)、拉繩(362)、推塊(363)、配合槽(364)，所述拉繩(362)安裝在銜接塊(361)底面中部，所述推塊(363)位于銜接塊(361)下方，所述配合槽(364)凹陷在推塊(363)上表面中部位置，所述拉繩(362)底端固定在配合槽(364)內底部位置。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述推塊(363)包括支撐塊(63a)、內腔(63b)、反彈桿(63c)、連接桿(63d)、推板(63e)、分散塊(63f)，所述內腔(63b)開設在支撐塊(63a)內部，所述反彈桿(63c)位于內腔(63b)內底部的中心位置，所述連接桿(63d)底端分別與反彈桿(63c)兩端活動配合，所述推板(63e)底面固定在連接桿(63d)頂端，所述分散塊(63f)上表面嵌套在支撐塊(63a)底面中部。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述推板(63e)包括支板(e1)、彈塊(e2)、撞擊塊(e3)，所述彈塊(e2)底端固定在支板(e 1)上表面，所述撞擊塊(e3)底面中部與彈塊(e2)頂端活動配合。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述撞擊塊(e3)包括塊體(e31)、下推板(e32)、推條(e33)，所述下推板(e32)分別與塊體(e31)兩側表面鉸鏈連接，所述推條(e33)底端固定在下推板(e32)的上表面。

6.根據(jù)權利要求3所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述分散塊(63f)包括銜接板(f1)、推桿(f2)、支撐條(f3)、擺動板(f4)，所述推桿(f2)頂端分別與銜接板(f1)左右兩端的底面銜接連接，所述支撐條(f3)底端安裝在推桿(f2)的內側面中部位置，所述擺動板(f4)頂端懸掛在銜接板(f1)的底面。

7.根據(jù)權利要求6所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述擺動板(f4)包括擴張塊(f41)、葉板(f42)、推動塊(f43)，所述葉板(f42)頂端中部懸掛在擴張塊(f41)底端，所述推動塊(f43)上表面與葉板(f42)底端為一體化結構。

8.根據(jù)權利要求7所述的一種除菌衛(wèi)生巾抄成漿片處理設備，其特征在于：所述葉板(f42)包括板體(42a)、側槽(42b)、伸縮桿(42c)、反彈塊(42d)，所述側槽(42b)分別由外往內凹陷在板體(42a)靠近底端的兩側表面及內部之間，所述伸縮桿(42c)內端固定在側槽(42b)的中部內壁，所述反彈塊(42d)與伸縮桿(42c)外端活動配合。