[發(fā)明專利]一種降空間尺度差實(shí)現(xiàn)電磁場(chǎng)加速計(jì)算的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110308085.X | 申請(qǐng)日: | 2021-03-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113076668B | 公開(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱鏵丞;楊陽(yáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F30/23 | 分類號(hào): | G06F30/23 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 卿誠(chéng) |
| 地址: | 610041 四川省成都*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 空間 尺度 實(shí)現(xiàn) 電磁場(chǎng) 加速 計(jì)算 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種降空間尺度差實(shí)現(xiàn)電磁場(chǎng)加速計(jì)算的方法,屬于微波技術(shù)電磁仿真計(jì)算領(lǐng)域,包括設(shè)定空間模型步驟、設(shè)定介質(zhì)參數(shù)步驟、設(shè)定微波參數(shù)步驟和計(jì)算步驟;在設(shè)定空間模型步驟中,獲取薄壁區(qū)域的位置和幾何尺寸,用比薄壁區(qū)域幾何尺寸大的變換光學(xué)區(qū)域替換薄壁區(qū)域;在設(shè)定介質(zhì)參數(shù)步驟中,獲取薄壁區(qū)域的介質(zhì)參數(shù),并利用變換光學(xué)算法計(jì)算等效替換薄壁區(qū)域的變換光學(xué)區(qū)域的介質(zhì)參數(shù);采用FDTD時(shí)域有限差分算法或FEM有限元算法進(jìn)行網(wǎng)格剖分,獲取帶薄壁區(qū)域的物理場(chǎng)分布。本發(fā)明的一種降空間尺度差實(shí)現(xiàn)電磁場(chǎng)加速計(jì)算的方法,能夠解決薄壁區(qū)域幾何尺寸小,剖分困難,網(wǎng)格數(shù)量大,計(jì)算時(shí)間長(zhǎng),占用計(jì)算機(jī)內(nèi)存的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于微波技術(shù)電磁仿真計(jì)算領(lǐng)域,具體地說(shuō)涉及一種降空間尺度差實(shí)現(xiàn)電磁場(chǎng)加速計(jì)算的方法。
背景技術(shù)
隨著微波技術(shù)的快速發(fā)展,微波器件的應(yīng)用范圍變的越來(lái)越廣。微波既可以作為信息的載體,在通訊、探測(cè)等領(lǐng)域發(fā)揮著重要的作用;也可以作為能量的載體,在能量傳輸、加熱等領(lǐng)域被廣發(fā)的應(yīng)用,是一種清潔、高效的能源。
例如微波加熱相較于傳統(tǒng)的加熱方式具有高效性、選擇性、即時(shí)性和環(huán)境友好的特點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于食品、化工等行業(yè)中。但在微波加熱的應(yīng)用中,微波加熱存在著加熱不均勻,加熱效率低的現(xiàn)象。為了滿足相關(guān)設(shè)計(jì)需求,提高微波器件的性能,可以采用電磁仿真軟件建立相應(yīng)的模型,并利用模型參與已有或設(shè)想的性能要求進(jìn)行研究。
在當(dāng)今微波產(chǎn)品設(shè)計(jì)過(guò)程中,電磁仿真分析具有無(wú)法替代的作用和地位。但在仿真計(jì)算中,對(duì)于模型中區(qū)域較小、較薄的區(qū)域常常會(huì)出現(xiàn)網(wǎng)格難以剖分或網(wǎng)格剖分密度大,造成整個(gè)模型計(jì)算耗費(fèi)內(nèi)存大、計(jì)算時(shí)間長(zhǎng)的情況。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)上述不足之處提供一種降空間尺度差實(shí)現(xiàn)電磁場(chǎng)加速計(jì)算的方法,擬解決現(xiàn)有仿真軟件中,薄壁區(qū)域幾何尺寸小,剖分困難,網(wǎng)格數(shù)量大,計(jì)算時(shí)間長(zhǎng),占用計(jì)算機(jī)內(nèi)存等問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
一種降空間尺度差實(shí)現(xiàn)電磁場(chǎng)加速計(jì)算的方法,包括設(shè)定空間模型步驟、設(shè)定介質(zhì)參數(shù)步驟和計(jì)算步驟;
所述設(shè)定空間模型步驟具體如下:
步驟a.設(shè)置仿真模型及邊界條件;
步驟b.獲取薄壁區(qū)域的位置和幾何尺寸,用比薄壁區(qū)域幾何尺寸大的變換光學(xué)區(qū)域替換薄壁區(qū)域,設(shè)定變換光學(xué)區(qū)域的位置和幾何尺寸;
所述設(shè)定介質(zhì)參數(shù)步驟具體如下:
步驟c.獲取薄壁區(qū)域的介質(zhì)參數(shù),并利用變換光學(xué)算法計(jì)算等效替換薄壁區(qū)域的變換光學(xué)區(qū)域的介質(zhì)參數(shù),設(shè)定變換光學(xué)區(qū)域的介質(zhì)參數(shù);
步驟d.設(shè)定物料區(qū)域的介質(zhì)參數(shù);
步驟e.設(shè)定除薄壁區(qū)域和變換光學(xué)區(qū)域之外的區(qū)域的介質(zhì)參數(shù);
所述計(jì)算步驟具體如下:
步驟f.采用FDTD時(shí)域有限差分算法或FEM有限元算法進(jìn)行網(wǎng)格剖分,獲取帶薄壁區(qū)域的物理場(chǎng)分布。設(shè)置仿真模型包括設(shè)定薄壁區(qū)域的位置和幾何尺寸、設(shè)定物料區(qū)域的位置和幾何尺寸、設(shè)定微波饋口的位置和幾何尺寸、設(shè)定微波潰口處輸入的微波參數(shù)等;如果存在厚壁區(qū)域,我們也可以設(shè)定厚壁區(qū)域的位置和幾何尺寸,用比厚壁區(qū)域幾何尺寸小的變換光學(xué)區(qū)域替換厚壁區(qū)域,設(shè)定變換光學(xué)區(qū)域的位置和幾何尺寸;獲取厚壁區(qū)域的介質(zhì)參數(shù),并利用變換光學(xué)算法計(jì)算等效替換厚壁區(qū)域的變換光學(xué)區(qū)域的介質(zhì)參數(shù),設(shè)定變換光學(xué)區(qū)域的介質(zhì)參數(shù);變換光學(xué)區(qū)域縮小了原來(lái)的厚壁區(qū)域后,新坐標(biāo)系下的節(jié)點(diǎn)數(shù)和單元數(shù)比舊坐標(biāo)系下的少幾倍,且計(jì)算時(shí)間也更快。
進(jìn)一步的,所述邊界條件為帶薄壁區(qū)域采用開放空間或封閉空間。
進(jìn)一步的,所述介質(zhì)參數(shù)為介電張量和磁導(dǎo)率張量。
進(jìn)一步的,所述介質(zhì)參數(shù)為熱導(dǎo)率張量、密度和比熱容。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于四川大學(xué),未經(jīng)四川大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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