[發明專利]一種氮化鈦鋁型超硬涂層及其制備方法在審
| 申請號: | 202110306903.2 | 申請日: | 2021-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN113151781A | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | 王叔暉;沈平;孟慶學 | 申請(專利權)人: | 法德(浙江)機械科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司: | 北京風雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人: | 郭曼 |
| 地址: | 313100 浙江省湖*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氮化 鈦鋁型超硬 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種氮化鈦鋁型超硬涂層,其特征在于,包括氮化鈦鋁層和沉積于氮化鈦鋁層上的功能層,所述功能層中鎢的含量為8-12at%,硅的含量為8-12at%。
2.根據權利要求1所述氮化鈦鋁型超硬涂層,其特征在于,所述功能層中鎢的含量為10at%,硅的含量為10at%。
3.根據權利要求1所述氮化鈦鋁型超硬涂層,其特征在于,所述功能層為含有鎢和硅的氮氧化合物和/或氮化物。
4.根據權利要求1所述氮化鈦鋁型超硬涂層的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟一、基體預處理:將基體預處理后放入真空室準備鍍膜;
步驟二、真空加熱處理:鍍膜室背底真空達到10-4Pa時開始加熱;
步驟三、離子轟擊:當溫度達到200℃時通入氬氣,使鍍膜室真空度達到5×10-1Pa,開啟弧源,進行離子轟擊;
步驟四、沉積:向鍍膜室內通入氮氣,使混合氣體總壓強保持在1.5×10-1Pa,鈦鋁合金靶的弧電流置于55-60A,基體偏壓為150-200V,沉積80-120min;之后加熱溫度至280℃,開啟鈦硅靶的弧電流置于60-65A以及鎢靶的弧電流置于30-40A,基體偏壓為150-200V,沉積60-120min;
步驟五、沉積結束后,開啟爐體循環冷卻系統冷卻,待基體冷卻后取出。
5.根據權利要求4所述氮化鈦鋁型超硬涂層的制備方法,其特征在于,所述步驟一中基體預處理是將基體依次在丙酮、無水乙醇中超聲清洗10-20min,然后熱風吹干。
6.根據權利要求4所述氮化鈦鋁型超硬涂層的制備方法,其特征在于,所述步驟二中先通過機械泵和分子泵將鍍膜室抽至真空度為5×10-4Pa,然后將紅外加熱管的溫度設置為600℃,加熱時間設置為30min,加熱后再將鍍膜室真空度抽至5×10-4Pa,接著將紅外加熱管的溫度設置為550℃,加熱時間設置為30min,再次加熱后將腔室抽至真空度為5×10-4Pa,充分去除鍍膜室易揮發雜質。
7.根據權利要求4所述氮化鈦鋁型超硬涂層的制備方法,其特征在于,所述步驟三中轟擊偏壓保持300V進行轟擊5min,轟擊偏壓保持350V進行轟擊5min。
8.根據權利要求4所述氮化鈦鋁型超硬涂層的制備方法,其特征在于,所述步驟四中鈦鋁合金靶、鈦硅靶及鎢靶的電源均為直流電源,氮氣的流量為10-40sccm,氬氣的流量為50-60sccm。
9.根據權利要求4所述氮化鈦鋁型超硬涂層的制備方法,其特征在于,所述步驟四中鈦鋁合金靶、鈦硅靶及鎢靶的電源均為高功率脈沖電源,氮氣的流量為10-50sccm,氬氣的流量為80-100sccm。
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