[發(fā)明專(zhuān)利]一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的實(shí)現(xiàn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110305868.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113066726B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃宏嘉;林和;牛崇實(shí);洪學(xué)天;張維忠 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 弘大芯源(深圳)半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/336 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/336;H01L21/66;H01L29/10 |
| 代理公司: | 北京冠和權(quán)律師事務(wù)所 11399 | 代理人: | 吳金水 |
| 地址: | 518128 廣東省深圳市寶安區(qū)航城街道*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 場(chǎng)效應(yīng) 晶體管 實(shí)現(xiàn) 方法 | ||
1.一種嵌入式晶體管的實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于,包括:
步驟1:在目標(biāo)晶體管中設(shè)置嵌入式通道,來(lái)將所述目標(biāo)晶體管中的漏極和源極區(qū)域與柵極邊界間隔預(yù)設(shè)距離;
步驟2:在所述柵極邊界與源極之間以及柵極邊界與漏極之間,分別建立對(duì)應(yīng)的摻雜濃度,構(gòu)成嵌入式晶體管;
所述嵌入式晶體管的結(jié)構(gòu)公式如下:
;
其中,表示所述嵌入式晶體管的通道長(zhǎng)度;表示所述嵌入式晶體管的柵極長(zhǎng)度;a表示所述嵌入式晶體管的柵極至源極或柵極至漏極之間的距離;
同時(shí),在重?fù)诫s的N+源極和N+漏極之間的區(qū)域?yàn)榈蛽诫s的N-嵌入式通道,所述N-嵌入式通道的長(zhǎng)度大于柵極長(zhǎng)度;
步驟3:對(duì)所述嵌入式晶體管進(jìn)行驗(yàn)證,確定是否合格;
若合格,保持當(dāng)前設(shè)置的嵌入式通道以及建立的摻雜濃度不變;
否則,對(duì)當(dāng)前設(shè)置的嵌入式通道以及建立的摻雜濃度進(jìn)行調(diào)整;
對(duì)所述嵌入式晶體管進(jìn)行驗(yàn)證,確定是否合格,包括:
基于所述嵌入式晶體管進(jìn)行預(yù)設(shè)條件下標(biāo)準(zhǔn)工作,并獲取對(duì)應(yīng)的工作參數(shù),對(duì)所述工作參數(shù)進(jìn)行分類(lèi)處理,獲得多類(lèi)子數(shù)據(jù);
獲取驗(yàn)證工具的歷史驗(yàn)證集合,并進(jìn)行預(yù)分析,確定所述驗(yàn)證工具的成功驗(yàn)證次數(shù)以及失敗驗(yàn)證次數(shù),進(jìn)而確定對(duì)應(yīng)的驗(yàn)證準(zhǔn)確率;
賦予每個(gè)驗(yàn)證工具對(duì)應(yīng)的驗(yàn)證權(quán)限以及所述驗(yàn)證權(quán)限的權(quán)重值;
按照驗(yàn)證權(quán)限調(diào)取與所述子數(shù)據(jù)相匹配的驗(yàn)證工具,并按照所述匹配的驗(yàn)證工具對(duì)對(duì)應(yīng)的子數(shù)據(jù)進(jìn)行驗(yàn)證,獲得第一驗(yàn)證結(jié)果;
按照每個(gè)驗(yàn)證工具的驗(yàn)證準(zhǔn)確率以及對(duì)應(yīng)的權(quán)重值,將所述第一驗(yàn)證結(jié)果進(jìn)行加權(quán)求和,生成第二驗(yàn)證結(jié)果;
當(dāng)所述第二驗(yàn)證結(jié)果大于預(yù)設(shè)驗(yàn)證值時(shí),判定所述嵌入式晶體管不合格,并判斷所述工作參數(shù)存在數(shù)據(jù)缺陷,提取所述工作參數(shù)中的缺陷參數(shù),對(duì)所述缺陷參數(shù)所構(gòu)成的缺陷事件進(jìn)行邏輯校驗(yàn);
將邏輯校驗(yàn)結(jié)果與預(yù)設(shè)校驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行比較,并按照預(yù)設(shè)校驗(yàn)結(jié)果獲取對(duì)應(yīng)的待調(diào)整結(jié)果;
根據(jù)所述待調(diào)整結(jié)果,確定與當(dāng)前設(shè)置的嵌入式通道以及建立的摻雜濃度相關(guān)的待調(diào)整信息,并輸出提醒;
當(dāng)所述第二驗(yàn)證結(jié)果小于預(yù)設(shè)驗(yàn)證值時(shí),判定所述嵌入式晶體管合格。
2.如權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于,步驟1中,在目標(biāo)晶體管中設(shè)置嵌入式通道之前包括:
確定所述目標(biāo)晶體管的型號(hào),并基于所述型號(hào)調(diào)取不同輸入電壓下所對(duì)應(yīng)的源極和漏極區(qū)域與柵極邊界重疊區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)電場(chǎng)強(qiáng)度;
當(dāng)柵極與源極和漏極之間距離為第一距離時(shí),按照間隔時(shí)間向所述目標(biāo)晶體管輸入不同目標(biāo)電壓,并測(cè)量對(duì)應(yīng)的源極和漏極區(qū)域與柵極邊界重疊區(qū)域的實(shí)際電場(chǎng)強(qiáng)度,同時(shí),在測(cè)量得到實(shí)際電場(chǎng)強(qiáng)度的過(guò)程中,監(jiān)測(cè)所述目標(biāo)晶體管的工作參數(shù)集合,所述工作參數(shù)集合包括:當(dāng)前工作溫度、當(dāng)前工作功率;
根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)電場(chǎng)強(qiáng)度以及實(shí)際電場(chǎng)強(qiáng)度,確定所述目標(biāo)晶體管的衰減系數(shù),同時(shí),根據(jù)所述工作參數(shù)集合,確定所述目標(biāo)晶體管的工作穩(wěn)定性;
基于第一距離的基礎(chǔ)上按照距離增加規(guī)律進(jìn)行距離增加,得到第二距離,并監(jiān)測(cè)柵極與源極和漏極之間處于第二距離時(shí),對(duì)應(yīng)的不同目標(biāo)電壓的當(dāng)前電場(chǎng)強(qiáng)度;
從所有當(dāng)前電場(chǎng)強(qiáng)度,確定最佳電場(chǎng)強(qiáng)度集合,判斷所述最佳電場(chǎng)強(qiáng)度集合中是否只存在一個(gè)電場(chǎng)強(qiáng)度數(shù)據(jù);
若是,基于存儲(chǔ)的一個(gè)電場(chǎng)強(qiáng)度數(shù)據(jù),確定對(duì)應(yīng)的第二距離;
若不是,基于所述衰減系數(shù)以及工作穩(wěn)定性,從所述最佳電場(chǎng)強(qiáng)度集合中篩選最佳電場(chǎng)強(qiáng)度,并確定對(duì)應(yīng)的第二距離;
其中,所述第二距離即為預(yù)設(shè)距離。
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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