[發明專利]一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤

在審

• 申請號: 202110304763.5
• 申請日: 2021-03-23
• 公開（公告）號: CN113148824A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 王海;王哲瀚
• 申請（專利權）人: 鹽城博碩真空設備有限公司
• 主分類號: B66C1/02
• 分類號: B66C1/02;F17D1/07;F17D3/01;F17D5/00
• 代理公司: 鹽城盈禾知識產權代理事務所(普通合伙) 32428
• 代理人: 任越

1.一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，包括驅動機構，以及與所述驅動機構驅動連接的真空吸附機構；其特征在于：所述真空吸附機構采用的雙真空吸盤；所述雙真空吸盤包括與驅動機構驅動連接的緊固密封板，以及設置在與緊固密封板上的內部吸附機構和外部控壓機構；所述外部控壓機構套設在所述內部吸附機構的外部，且所述內部吸附機構包括至少一個與緊固密封板彈性銜接的真空吸盤，所述外部控壓機構罩設在所述真空吸盤的外部，且外部控壓機構與所述真空吸盤的外部之間形成高壓真空腔。

2.根據權利要求1所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述內部吸附機構包括連接緊固密封板和真空吸盤的波紋管二，導向伸縮機構穿設在所述波紋管二內，且導向伸縮機構彈性銜接所述緊固密封板和所述真空吸盤，且所述波紋管二與內部吸附接頭連通用于銜接供氣管路和所述真空吸盤。

3.根據權利要求2所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述導向伸縮機構包括穿設在所述波紋管二內的套管，所述套管的一端與緊固密封板固定連接，所述套管的另一端活動套設在與所述真空吸盤固定銜接的過渡體上，所述套管通過定位導桿二與過渡體活動銜接，且所述套管與所述過渡體之間通過彈性件二彈性間隔支撐。

4.根據權利要求3所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述套管內設置有限位環臺，所述定位導桿二的一端與過渡體固定連接；所述定位導桿二的另一端穿設過所述限位環臺后固定設置有限位螺母；且定位導桿二上的限位螺母與所述過渡體旋接處之間預留有升降間隙；套管和過渡體均為中通的管體結構，且套管和過渡體的管身上均設置有與波紋管二連通的通孔。

5.根據權利要求2所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述外部控壓機構包括套設在所述內部吸附機構外部的密封外殼一和密封外殼二，以及銜接所述密封外殼一和密封外殼二的波紋管一；所述密封外殼二與緊固密封板固定連接，所述密封外殼一套設在所述真空吸盤外圍；且所述緊固密封板與所述密封外殼一和波紋管一以及密封外殼二的內部形成所述高壓真空腔。

6.根據權利要求5所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述彈性件一彈性間隔支撐在所述密封外殼一和所述密封外殼二之間，且所述密封外殼一和密封外殼二通過若干根定位導桿一活動銜接。

7.根據權利要求6所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述定位導桿一的一端與所述密封外殼二固定連接，所述定位導桿一的另一端活動穿設過密封外殼二后設置有用于限位的大端頭。

8.根據權利要求5所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述安裝板上設置有高壓接口和低壓接口，所述高壓接口銜接所述供氣管路的外部控壓接頭和波紋管一，所述低壓接口銜接所述供氣管路的內部吸附接頭和波紋管二；所述高壓接口通過對接機構一與外部控壓接頭連接；所述低壓接口通過對接機構二與所述內部吸附接頭連接。

9.根據權利要求1所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤，其特征在于：所述驅動機構和與所述驅動機構驅動連接的若干個雙真空吸盤均設置在真空箱內，所述驅動機構包括設置在真空箱內的位移機構；以及與所述位移機構驅動連接升降機構；且所述升降機構與所述雙真空吸盤的銜接密封板驅動連接。

10.一種采用權利要求1~9中任一所述的一步法、無抽氣口全鋼化真空玻璃加工用雙真空吸盤的取料方法，其特征在于：包括以下步驟，

步驟一，驅動機構驅動雙真空吸盤位移至工件上方，

步驟二，下壓雙真空吸盤，雙真空吸盤內的真空吸盤以及套設在真空吸盤外側的密封外殼一受到下壓力，使外部控壓機構和內部吸附機構的彈性件一和彈性件二受力形變，使真空吸盤的吸盤密封面以及密封外殼一底部充分接觸工件的平面；

步驟三，對內部吸附機構的高壓真空腔導入真空箱外部的氣體，破除高壓真空腔內的真空狀態；

步驟四，對內部吸附機構的低壓真空腔進行抽真空，使得低壓真空腔內為真空狀態，在真空吸盤內外形成氣壓差，真空吸盤吸附住工件；

步驟四，通過驅動機構中的位移機構和升降機構帶動雙真空吸盤轉移工件；

步驟五，通過供氣管路調節高壓真空腔和低壓真空腔內的壓力至真空箱內的真空壓力，雙真空吸盤釋放工件。