[發明專利]一種裝飾輔助面建模方法及裝置在審
| 申請號: | 202110304093.7 | 申請日: | 2021-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN112699453A | 公開(公告)日: | 2021-04-23 |
| 發明(設計)人: | 陳成華 | 申請(專利權)人: | 巧奪天宮(深圳)科技有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/13 | 分類號: | G06F30/13;G06F30/20;G06Q50/08;G06F111/10 |
| 代理公司: | 深圳市正威知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 44643 | 代理人: | 周軍 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 裝飾 輔助 建模 方法 裝置 | ||
1.一種裝飾輔助面建模方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取裝飾輔助面的高度參數;
根據所述高度參數生成與所述高度參數匹配的裝飾輔助面;
獲取偏移參數,所述偏移參數用于對裝飾輔助面中的至少一個輔助面進行偏移,所述至少一個輔助面包括墻柱面輔助面、天花輔助面或地面輔助面;
根據所述偏移參數對所述至少一個輔助面執行偏移操作。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述偏移參數對所述至少一個輔助面執行偏移操作,包括:
解析所述偏移參數,得到偏移方向、偏移距離以及至少一個輔助面;
根據所述偏移方向將所述至少一個輔助面偏移至與所述至少一個輔助面所在初始位置的距離為所述偏移距離。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述解析所述偏移參數,得到偏移方向、偏移距離以及至少一個輔助面,包括:
解析所述偏移參數,得到偏移距離和至少一個輔助面;
根據所述偏移距離確定所述至少一個輔助面的偏移方向,其中,當所述偏移距離大于零時,所述偏移方向為向外偏移;若所述偏移距離小于零時,所述偏移方向為向內偏移。
4.根據權利要求1-3任意一項所述的方法,其特征在于,所述至少一個輔助面為墻柱面輔助面和/或所述天花輔助面中的一個或所述墻柱面輔助面與所述天花輔助面的整體。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在獲取偏移參數之前,所述方法還包括:
獲取輔助面模型,所述輔助面模型包括單個面、單個實體、空間面、連續面和拽線繪制;
從多個所述輔助面模型中確定一目標輔助模型;
根據所述至少一個輔助面模型對所述至少一個輔助面進行標記。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取裝飾輔助面的高度參數,包括:
獲取裝飾輔助面中的墻柱面輔助面的第一高度、地面輔助面的第二高度以及踢腳線的第三高度;
所述根據所述高度參數生成與所述高度參數匹配的裝飾輔助面,包括:
根據所述第一高度、所述第二高度和所述第三高度生成裝飾輔助面。
7.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,根據所述偏移方向將所述至少一個輔助面偏移至與所述至少一個輔助面所在初始位置的距離為所述偏移距離,包括:
基于多邊形逐邊裁剪算法從所述至少一個輔助面上裁剪出一目標偏移面;
根據所述偏移方向以及所述偏移距離對速搜目標偏移面進行偏移。
8.一種裝飾輔助面建模裝置,其特征在于,所述裝置包括:
裝飾輔助面功能模塊,用于獲取裝飾輔助面的高度參數;
第一執行模塊,用于根據所述高度參數生成與所述高度參數匹配的裝飾輔助面;
所述裝飾輔助面功能模塊,還用于獲取偏移參數,所述偏移參數用于對裝飾輔助面中的至少一個輔助面進行偏移,所述至少一個輔助面包括墻柱面輔助面、天花輔助面或地面輔助面;
第二執行模塊,用于根據所述偏移參數對所述至少一個輔助面執行偏移操作。
9.一種電子設備,其特征在于,包括:
存儲器,用于存儲可執行指令;
處理器,用于執行所述存儲器中存儲的可執行指令時,實現如權利要求1-7任一項所述的裝飾輔助面建模方法。
10.一種計算機可讀存儲介質,其特征在于,所述計算機可讀存儲介質上存儲有計算機程序,所述計算機程序被處理設備運行時執行如權利要求1-7的任一項所述的裝飾輔助面建模方法的步驟。
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