[發明專利]一種應用于小尺寸樣品光刻工藝的方法

有效

• 申請號: 202110304075.9
• 申請日: 2021-03-22
• 公開（公告）號: CN113031392B
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 馮夢陽;孟憲權;金鵬;周廣迪;霍曉迪;徐鵬飛;王占國
• 申請（專利權）人: 中國科學院半導體研究所;武漢大學
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/16;G03F7/20;B29C43/58;B29C43/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種應用于小尺寸樣品光刻工藝的方法，其特征在于，包括：

將待光刻的小尺寸樣品放置在冷壓法所用設備的壓片模具上；

將壓片用粉末材料填充到放置有所述小尺寸樣品的所述壓片模具中；

對所述壓片模具施加壓力，將所述小尺寸樣品嵌入到壓制所述壓片用粉末材料得到的壓片中，以得到壓片產品；

在所述壓片模具與所述小尺寸樣品之間放置用于保護樣品表面的膜層，其中，所述小尺寸樣品的光刻面與所述膜層相接觸；

所述膜層包括晶圓保護藍膜；

所述壓片用粉末材料包括聚四氟乙烯；

對所述壓片模具施加的壓力范圍在2-10MPa之間，對所述壓片模具施加壓力的時長范圍在2-10min之間；

其中，所述壓片產品中的所述小尺寸樣品的其中一個表面與所述壓制所述壓片用粉末材料得到的壓片表面平齊。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

在將待光刻的小尺寸樣品放置在冷壓法所用設備的壓片模具上之前，對所述小尺寸樣品進行清洗，并分別用丙酮和無水乙醇對所述壓片模具超聲清洗預設時長，再用去離子水沖洗干凈所述壓片模具，利用氮氣吹干所述壓片模具。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述冷壓法所用設備包括粉末壓片機。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

對所述壓片產品進行勻膠操作。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，還包括：

在對所述壓片產品進行勻膠操作之前，對所述壓片產品進行等離子體清洗和噴涂增粘劑。