[發明專利]一種微弧氧化同步輔助電磁場設備

有效

• 申請號: 202110299824.3
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN113061951B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 夏伶勤;陳光;高煜;鄭爐玉
• 申請（專利權）人: 浙江機電職業技術學院
• 主分類號: C25D11/02
• 分類號: C25D11/02
• 代理公司: 蘇州拓云知識產權代理事務所(普通合伙) 32344
• 代理人: 馬淑媛

本發明公開了一種新型微弧氧化同步輔助電磁場設備，其包括上固定機架、安裝底座、微弧氧化筒、供液排管、內置電磁場組件以及排液管件，所述上固定機架與所述安裝底座之間開均設有用于安裝所述微弧氧化筒的內置凹位，所述微弧氧化筒橫向同軸固定在所述內置凹位內；所述上固定機架的上端面中部豎直貫穿固定有供液排管，所述供液排管的一端與外設供液泵相連通，且，所述安裝底座的內部兩側位置橫向對稱安裝有排液管件，各所述排液管件的一端均與所述微弧氧化筒相連通，并在微弧氧化筒內的工件完成電解氧化工作后對其內部殘余電解液進行有效排放；所述排液管件上還安裝有導流葉件；所述微弧氧化筒內安裝有內置電磁場組件。

技術領域

本發明涉及微弧氧化設備技術領域，具體為一種微弧氧化同步輔助電磁場設備。

背景技術

微弧氧化(Microarc oxidation,MAO)又稱等離子體電解氧化，它突破了傳統的陽極氧化電流、電壓法拉第區域的限制，把陽極電位由幾十伏提高到幾百伏，利用弧光放電增強并激活陽極工件發生的電場、物理、化學、電化學等復雜反應；隨著現代科學技術的發展，鋁、鎂、鈦及其合金的應用越來越廣泛，雖然它們具有很多優良的物理力學性能，但總感到它們的耐磨、耐蝕性能還不能滿足某些零件的要求；現有技術中，通過對其外加輔助同步電磁場作用于電解液微等離子體，能夠進一步提升微弧氧化膜層生長速率，但其在外加電磁場裝置中，受磁場作用力大小以及空間定位方位的影響，使得工件在微弧氧化工作中易出現氧化膜分布不均勻等現象；因此有必要提出一種微弧氧化同步輔助電磁場設備，以解決上述問題。

發明內容

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種微弧氧化同步輔助電磁場設備，其包括上固定機架、安裝底座、微弧氧化筒、供液排管、內置電磁場組件以及排液管件，其中，所述安裝底座的上端面中部固定有上固定機架，且所述安裝底座的下端面四角位置均安裝有支撐契塊，并由所述支撐契塊穩固支撐在地面上，所述上固定機架與所述安裝底座之間開均設有用于安裝所述微弧氧化筒的內置凹位，所述微弧氧化筒橫向同軸固定在所述內置凹位內；

所述上固定機架的上端面中部豎直貫穿固定有供液排管，所述供液排管的一端與外設供液泵相連通，所述供液排管的另一端伸入所述微弧氧化筒內，并對其定量排送電解液；

所述微弧氧化筒的一側端面同軸安裝有密封端蓋，用于工件取放；

且，所述安裝底座的內部兩側位置橫向對稱安裝有排液管件，各所述排液管件的一端均與所述微弧氧化筒相連通，并在微弧氧化筒內的工件完成電解氧化工作后對其內部殘余電解液進行有效排放；

所述排液管件上還安裝有導流葉件；

所述微弧氧化筒內安裝有內置電磁場組件，所述內置電磁場組件輔助引導工件進行電解氧化工作，以便于工件表面形成均勻陶瓷膜層。

作為本發明的一種優選技術方案，所述內置電磁場組件包括導向內管、連接線圈、外軸座、外設供電體以及內置軸承件，其中，所述微弧氧化筒的內部同軸安裝有導向內管，且所述微弧氧化筒遠離所述密封端蓋的一側嵌入固定有外軸座，所述導向內管的一端通過內置軸承件可相對轉動的設置在所述外軸座上；

所述導向內管的外圓周側壁上卷設有連接線圈，所述連接線圈呈螺旋式均勻分布在所述導向內管上；

所述連接線圈的兩端分別與外設供電體的正負極相連通，并形成電磁場；

所述導向內管內還安裝有定位裝夾組件，所述定位裝夾組件對工件進行穩固夾持，并調節深入磁場范圍中。

作為本發明的一種優選技術方案，所述導向內管的外圓周側壁上同軸固定有傳動齒件，且，所述微弧氧化筒上安裝有旋轉電機，所述旋轉電機的輸出端通過齒輪嚙合作用與所述傳動齒件相連接傳動，并驅動所述導向內管作定向圓周旋轉運動；