[發(fā)明專利]顯示面板及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110298443.3 | 申請日: | 2021-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN112859456B | 公開(公告)日: | 2023-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳麒;吳偉;張昊;仝遠(yuǎn);陳炎;周逸琛;張蕩;張伊伊;劉翔;朱陶和;代俊鋒;李凱 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;武漢京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,包括:
提供第一基板和第二基板,所述第一基板上滴設(shè)有液晶,所述第二基板上涂覆有封框膠;所述封框膠包括主膠體和虛置膠體;
在進(jìn)入真空對盒機(jī)之前,將所述第一基板進(jìn)行180°翻轉(zhuǎn),使所述第一基板上滴設(shè)有液晶的一側(cè)朝下;
在真空對盒機(jī)中將所述第一基板和第二基板對位貼合形成盒體,所述盒體中的主膠體和虛置膠體均為未經(jīng)預(yù)固化處理的膠體,所述主膠體和虛置膠體的物理特性一致;在真空對盒機(jī)中將所述第一基板和第二基板對位貼合形成盒體,包括:在真空對盒機(jī)中,上基臺吸附所述第一基板,所述第一基板滴設(shè)有液晶的一側(cè)朝下,下基臺吸附所述第二基板,所述第二基板涂覆有封框膠的一側(cè)朝上;所述上基臺帶動(dòng)所述第一基板或者所述下基臺帶動(dòng)所述第二基板進(jìn)行對位,并使所述第二基板上的封框膠的端部與所述第一基板貼合,形成所述第一基板位于所述第二基板上方的盒體;
將所述盒體從所述真空對盒機(jī)中取出,所述主膠體和虛置膠體同時(shí)受到大氣壓作用發(fā)生形變,所述主膠體的膠高和所述虛置膠體的膠高相同,盒體周邊的盒厚不存在差異;
保持所述盒體的姿態(tài),同時(shí)對所述主膠體和虛置膠體進(jìn)行紫外固化處理,包括:保持所述第一基板位于所述第二基板上方的盒體姿態(tài),將所述盒體送入紫外固化設(shè)備,即所述盒體從真空對盒機(jī)取出到送入紫外線固化設(shè)備過程中所述盒體沒有進(jìn)行翻轉(zhuǎn),所述盒體一直保持陣列基板位于彩膜基板上方的盒體姿態(tài),因而相對設(shè)置的所述第一基板和所述第二基板之間不會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)位,所述主膠體和所述虛置膠體的位置不會(huì)偏移,保證所述第一基板和所述第二基板的對位精度;在紫外固化設(shè)備中,紫外線光透過所述第一基板同時(shí)對所述主膠體和虛置膠體進(jìn)行紫外線固化處理;紫外線固化結(jié)束后,所述虛置膠體各個(gè)位置的收縮程度相同,所述虛置膠體各個(gè)位置的膠高相同,所述主膠體和虛置膠體的收縮程度相同,所述主膠體的膠高和所述虛置膠體的膠高相同,盒體周邊的盒厚不存在差異;將所述盒體從所述紫外固化設(shè)備中取出;
在熱固化設(shè)備中,同時(shí)對所述主膠體和虛置膠體進(jìn)行熱固化處理,包括:將所述盒體送入熱固化設(shè)備;在熱固化設(shè)備中,同時(shí)對所述主膠體和虛置膠體進(jìn)行熱固化處理;熱固化結(jié)束后,所述虛置膠體各個(gè)位置的收縮程度相同,所述虛置膠體各個(gè)位置的膠高基本上相同,所述主膠體和所述虛置膠體的收縮程度相同,所述主膠體的膠高和所述虛置膠體的膠高相同,盒體周邊的盒厚不存在差異;將所述盒體從所述熱固化設(shè)備中取出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述第一基板包括陣列基板,所述第二基板包括彩膜基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述第一基板包括彩膜基板,所述第二基板包括陣列基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述虛置膠體設(shè)置在所述主膠體的外圍。
5.一種顯示面板,其特征在于,采用如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的制備方法制備。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





