[發明專利]掩膜版、掩膜版的制作方法以及顯示面板的制作方法

在審

• 申請號: 202110298294.0
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN113061842A
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 馮丹丹;董晴晴;邱少亞;姜博;康夢華
• 申請（專利權）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/16;C23C14/24;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

本發明實施例公開了一種掩膜版、掩膜版的制作方法以及顯示面板的制作方法。該掩膜版包括金屬基板，設置于金屬基板的多個蒸鍍孔，多個蒸鍍孔呈陣列方式排列；所述金屬基板包括相對設置的第一表面和第二表面，沿金屬基板的厚度方向，蒸鍍孔由第一表面貫穿至第二表面；金屬基板的第二表面以及蒸鍍孔的側壁包括鍍層，鍍層用于抑制被蒸鍍的金屬材料成核。采用本發明實施例提供的掩膜版可以防止金屬材料在蒸鍍孔處粘連，形成多個陰極金屬塊，使得陰極金屬塊做得較小，減小陰極金屬塊的遮光，使得陰極層的光透過率較高，從而提高顯示面板的光透過率，從而提升屏下指紋的指紋識別精度以及屏下攝像頭的圖像采集精度。

技術領域

本發明實施例涉及顯示技術領域，尤其涉及一種掩膜版、掩膜版的制作方法以及顯示面板的制作方法。

背景技術

隨著顯示技術的發展以及人們生活水平的提高，有機發光二極管(OrganicLight-Emitting Diode，OLED)顯示裝置得到廣泛應用，現有的窄邊框或全面屏的柔性顯示面板的屏下指紋、屏下攝像等技術逐漸發展起來，需要光線穿過顯示面板照射到安裝于顯示面板背光面的感應裝置上，現有的顯示面板光透過率較低，影響屏下指紋的指紋識別精度以及屏下攝像頭的圖像采集精度等。

發明內容

本發明實施例提供一種掩膜版及其制作方法以及顯示面板的制作方法，以提高顯示面板的透光率，從而提升屏下指紋的指紋識別精度以及屏下攝像頭的圖像采集精度。

為實現上述技術問題，本發明采用以下技術方案：

第一方面，本發明實施例提供一種掩膜版，包括：

金屬基板，設置于金屬基板的多個蒸鍍孔，多個蒸鍍孔呈陣列方式排列；

所述金屬基板包括相對設置的第一表面和第二表面，沿金屬基板的厚度方向，蒸鍍孔由第一表面貫穿至第二表面；

金屬基板的第二表面以及蒸鍍孔的側壁包括鍍層，鍍層用于抑制被蒸鍍的金屬材料成核。

進一步地，鍍層的材料粘著概率小于或等于0.1。

進一步地，所述鍍層的材料包括聚合物材料或有機小分子材料；

聚合物材料包括全氟化聚合物、聚四氟乙烯、聚乙烯聯苯、聚乙烯咔唑中的一種或多種形成的聚合物；

有機小分子材料包括氮、硫、氧、磷和鋁的有機分子以及多環芳香族化合物中的一種或多種。

進一步地，金屬基板的第一表面包括鍍層。

進一步地，鍍層的厚度范圍包括1～10um。

進一步地，第二表面和蒸鍍孔的側壁表面粗糙度均大于第一表面的粗糙度。

進一步地，蒸鍍孔的開口的尺寸范圍包括10～100um。

第二方面，本發明實施例還提供一種掩膜版的制作方法，包括：

提供金屬基板；

在金屬基板上形成多個蒸鍍孔，多個蒸鍍孔呈陣列方式排列；其中，金屬基板包括相對設置的第一表面和第二表面，沿金屬基板的厚度方向，蒸鍍孔由第一表面貫穿至第二表面；

在金屬基板的第二表面以及蒸鍍孔的側壁形成鍍層；其中，鍍層用于抑制被蒸鍍的金屬材料成核。

進一步地，在金屬基板的第一表面、第二表面以及蒸鍍孔的側壁形成鍍層之前，還包括：

對第二表面和蒸鍍孔的側壁進行粗糙化處理。

第三方面，本發明實施例還提供一種顯示面板的制作方法，采用如第一方面任意掩膜版蒸鍍形成陰極。