[發明專利]一種采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置

有效

• 申請號: 202110297842.8
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN113073296B
• 公開（公告）日: 2023-01-20
• 發明（設計）人: 張心鳳;夏正衛;劉洋;陳玉梅;范洪躍
• 申請（專利權）人: 安徽純源鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/56
• 代理公司: 合肥九道和專利代理事務所(特殊普通合伙) 34154
• 代理人: 胡發丁

1.一種采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置，其特征在于：包括敲擊桿，敲擊桿的一端裝配有敲擊碳頭，敲擊桿的另一端裝配在轉動桿的一端，敲擊桿和轉動桿呈直角狀布置，轉動桿轉動安裝，轉動桿上設置有磁流體組件，轉動桿與調節其進行轉動的轉動調節組件相連接；磁流體組件上設置有散熱結構；所述的散熱結構為磁流體組件上設置的散熱管道構成；磁流體組件包括磁流體主體座，磁流體主體座內設有貫穿磁流體主體座的腔道，磁流體主體座穿套安裝在轉動桿上，磁流體主體座的內裝配有磁流體，磁流體的兩端分別設置有用于實現磁流體主體座和轉動桿之間密封裝配的A、B密封件；散熱管道設置在磁流體主體座上；散熱管道的長度方向與轉動軸的長度方向保持一致；轉動桿的一端轉動安裝在A支座上，轉動桿的另一端安裝在B支座上，A、B支座之間的轉動桿的桿身上裝配磁流體組件，A支座外側的轉動桿端部裝配敲擊桿，B支座外側的轉動桿的旁側設置有用于檢測轉動桿轉動狀態的檢測組件，檢測組件將檢測的信號輸送到調控組件進行分析處理，調控組件依據分析處理的結果調控轉動調節組件的運行狀態。

2.根據權利要求1所述的采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置，其特征在于：敲擊桿遠離轉動桿的端部設置有裝配孔，裝配孔為通孔，敲擊碳頭的局部延伸至裝配孔一端的外部用于敲擊碳靶，裝配孔的另一端設置有用于抵靠敲擊碳頭的碳頭抵靠塊，碳頭抵靠塊的外表面和敲擊碳頭相貼合抵靠。

3.根據權利要求2所述的采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置，其特征在于：B支座外側的轉動桿的桿身上裝配有傳感片，傳感片上設置由于標記的缺口處，檢測組件由傳感片外周設置的用于檢測缺口處位置的A、B傳感器組成，A、B傳感器裝配在B支座上。

4.根據權利要求3所述的采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置，其特征在于：轉動調節組件包括轉動桿上設置的A齒輪和敲擊安裝座上設置的旋轉氣缸，旋轉氣缸的動力輸出轉軸上設置有B齒輪，A、B齒輪傳動嚙合連接，控制組件包括PC端、正轉控制器和反轉控制器，PC端接收A、B傳感器檢測的信號進行分析處理，正轉控制器和反轉控制器通過調控通氣狀態調整旋轉氣缸的動力輸出轉軸進行正、反轉，PC端發送指令調控正、反轉控制器的通氣狀態。