[發明專利]平衡式流體研磨機

在審

• 申請號: 202110296871.2
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN113043154A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 蔡巧莉;夏金榮
• 申請（專利權）人: 深圳市佳利研磨設備有限公司
• 主分類號: B24B31/06
• 分類號: B24B31/06;B24B31/00;B24B31/12;B24B41/02;B24B47/04;B24B47/06;B24B41/00;B24B47/12
• 代理公司: 深圳茂達智聯知識產權代理事務所(普通合伙) 44394
• 代理人: 夏龍

1.一種平衡式流體研磨機，其特征在于，包括水平移動機構，以及與水平移動機構連接的移動架，所述移動架上設有料桿驅動機構，所述水平移動機構用于帶動移動架進行往復運動；

還包括設于料桿驅動機構下方的磨料腔體機構，所述磨料腔體機構包括底板、箱體、旋轉組件、振動組件和平衡組件；

所述振動組件設于箱體，所述振動組件用于驅使箱體振動；

所述旋轉組件設于底板上，所述旋轉組件包括旋轉電機、傳動齒輪組以及旋轉盤，所述旋轉電機與傳動齒輪組傳動連接，所述旋轉盤與傳動齒輪組嚙合，所述箱體設于旋轉盤上，并與所述旋轉盤共軸設置；

所述平衡組件包括環繞箱體設置的安裝體，設于安裝體上的第一磁吸件，以及設于箱體上的第二磁吸件，所述第一磁吸件和第二磁吸件之間相互排斥且位置相對應。

2.如權利要求1所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述第一磁吸件環繞安裝體的內壁設置，所述第二磁吸件環繞箱體的外壁設置。

3.如權利要求2所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述第二磁吸件設有至少兩組，兩組所述第二磁吸件分別設于箱體的底部和頂部，所述第一磁吸件設有至少兩組，兩組所述第一磁吸件分別設于安裝體的底部和頂部。

4.如權利要求1所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，還包括升降機構，以及與升降機構連接的升降架，所述水平移動機構設于升降架，所述升降機構用于帶動升降架進行往復運動。

5.如權利要求4所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述升降機構包括升降伺服電機和升降組件，所述升降組件包括與升降伺服電機連接的蝸輪蝸桿組，以及與蝸輪蝸桿組連接的絲桿，所述絲桿固定于升降架。

6.如權利要求4所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述水平移動機構包括設于升降架上的導軌和氣缸，以及設于導軌上的滑塊，所述移動架設于滑塊上，所述氣缸與移動架連接。

7.如權利要求1所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述旋轉盤與底板之間設有平面軸承。

8.如權利要求7所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述旋轉組件還包括可轉動設于底板的旋轉筒軸；

所述旋轉盤固定于旋轉筒軸上端，所述旋轉盤、平面軸承、旋轉筒軸共軸設置。

9.如權利要求8所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述旋轉筒軸包括軸盤和軸桿，所述軸盤與旋轉盤固定連接，所述軸桿上端連接軸盤，所述軸桿下端可轉動的穿設在底板上開設的軸孔內。

10.如權利要求1所述的平衡式流體研磨機，其特征在于，所述料桿驅動機構包括公轉機構和自轉機構，所述公轉機構包括公轉電機、公轉盤和公轉軸，所述公轉電機與公轉軸連接，所述公轉軸與公轉盤連接，所述自轉機構包括自轉電機、第一自轉軸、第一齒輪、傳動組和第二齒輪，所述自轉電機與第一自轉軸連接，所述第一自轉軸與第一齒輪連接，所述傳動組套設于公轉軸，所述傳動組分別與第一齒輪和第二齒輪連接，所述第二齒輪設于公轉盤上。