[發(fā)明專利]一種基于梯度下降算法的全光開關(guān)及其實(shí)現(xiàn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110295858.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112987446B | 公開(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡小永;龔旗煌;齊慧欣;杜卓晨;牛欣翔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02F1/35 | 分類號(hào): | G02F1/35 |
| 代理公司: | 北京萬象新悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11360 | 代理人: | 王巖 |
| 地址: | 100871*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 梯度 下降 算法 開關(guān) 及其 實(shí)現(xiàn) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于梯度下降算法的全光開關(guān)及其實(shí)現(xiàn)方法。本發(fā)明在梯度下降算法中引入了非線性的計(jì)算方法,利用三階非線性光學(xué)克爾效應(yīng),通過信號(hào)光激發(fā)材料的三階非線性光學(xué)響應(yīng)來改變納微光子結(jié)構(gòu)材料的介電分布情況,在信號(hào)光作用下非線性材料折射率與強(qiáng)度有關(guān),基于梯度下降算法的反向設(shè)計(jì)為實(shí)現(xiàn)的光子器件提供了一個(gè)通用的平臺(tái),利于實(shí)現(xiàn)納米光子器件的設(shè)計(jì)與集成;而非線性算法的引入有利于更復(fù)雜功能器件的設(shè)計(jì),拓寬了器件設(shè)計(jì)的思路,豐富了器件設(shè)計(jì)的功能;工藝優(yōu)化算法的引入大大降低了器件優(yōu)化的效率;基于反向設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的全光集成器件在先進(jìn)光子電路、全光信息處理、光通信等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光子集成回路技術(shù),具體涉及一種基于梯度下降算法的全光開關(guān)及其實(shí)現(xiàn)方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的微納光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)主要基于時(shí)域有限差分法(FDTD)、有限元方法等求解麥克斯韋方程組,但是使用這些方法設(shè)計(jì)光學(xué)微納結(jié)構(gòu)通常涉及一個(gè)漫長的過程,特別是在二維或三維結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,都是通過手動(dòng)調(diào)整參數(shù)(例如波導(dǎo)的寬度、空氣孔和微環(huán)的尺寸)來設(shè)計(jì)的,并通過反復(fù)計(jì)算來優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù)。反向設(shè)計(jì)方法更適用于光學(xué)微納結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)和優(yōu)化問題,它是一種基于期望的功能特征計(jì)算未知光學(xué)結(jié)構(gòu)或優(yōu)化已知結(jié)構(gòu)的算法技術(shù)。人們指定期望的電磁場(chǎng)分布或器件功能等其他特性,然后通過算法讓計(jì)算機(jī)找到滿足這些要求的介電結(jié)構(gòu),這是一種更直觀和計(jì)算效率更高的設(shè)計(jì)策略。例如,定義已知器件內(nèi)部電磁場(chǎng)分布,但周圍結(jié)構(gòu)未知,需要達(dá)到的目標(biāo)是,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生已知電磁場(chǎng)分布的介電結(jié)構(gòu)分布,即可以通過計(jì)算機(jī)與相應(yīng)的算法實(shí)現(xiàn)預(yù)期的目標(biāo)。反向設(shè)計(jì)過程中常采用一些“智能算法”,比如模擬退火算法,遺傳算法,神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),梯度下降算法等,通常解決一些最優(yōu)化問題來達(dá)到反向設(shè)計(jì)的目的。
目前,人們已經(jīng)基于反向設(shè)計(jì)算法設(shè)計(jì)出許多性能優(yōu)越的器件,例如波長分束器、功率分配器、解復(fù)用光柵、邏輯門等。Alexander等人利用凸優(yōu)化算法設(shè)計(jì)了一種硅基波分復(fù)用器,器件結(jié)構(gòu)尺寸為2.8μm×2.8μm,它可以將一個(gè)輸入波導(dǎo)中的1300nm和1550nm的光分成為兩個(gè)波導(dǎo)輸出。Tahersima等人使用深度學(xué)習(xí)來預(yù)測(cè)人工設(shè)計(jì)的納米光子器件的光學(xué)響應(yīng),基于深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)(DNN)可以在幾分之一秒內(nèi)設(shè)計(jì)出2.6μm×2.6μm基于絕緣體上硅(SOI)的1×2功率分離器。Alexander等人用反向設(shè)計(jì)的方法演示一個(gè)新的解復(fù)用光柵,這種新型的光柵沒有使用傳統(tǒng)的技術(shù),它從自由空間接收垂直入射的高斯光束,并將o波段(1300nm)和c波段(1550nm)的光分離成單獨(dú)的波導(dǎo)。
然而,現(xiàn)有算法中主要基于線性光學(xué)的原理,利用光的干涉疊加與散射等原理實(shí)現(xiàn)器件功能,局限于符合線性疊加原理可實(shí)現(xiàn)的器件。然而,光開關(guān),調(diào)制器、多功能器件等器件的實(shí)現(xiàn)需要引入非線性等因素,因此現(xiàn)有的反向算法還不能用來設(shè)計(jì)這類器件。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)以上現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明提出了一種基于梯度下降算法的全光開關(guān)及其實(shí)現(xiàn)方法。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種基于梯度下降算法的全光開關(guān)。
本發(fā)明的基于梯度下降算法的全光開關(guān)包括:入射波導(dǎo)、光傳輸器件、出射波導(dǎo)和信號(hào)光;入射波導(dǎo)經(jīng)光傳輸器件連接至出射波導(dǎo);光傳輸器件的二維截面被分割成M×N個(gè)正方形的基本單元,在梯度下降算法中引入非線性算法,計(jì)算得到每個(gè)基本單元的折射率,各個(gè)基本單元的折射率的值離散化成一個(gè)實(shí)際的非線性材料對(duì)應(yīng)的折射率的值和一個(gè)實(shí)際的線性材料對(duì)應(yīng)的折射率的值,從而相應(yīng)的基本單元采用與計(jì)算得到的折射率的值相對(duì)應(yīng)的非線性材料和線性材料;信號(hào)光從入射波導(dǎo)至光傳輸器件,當(dāng)信號(hào)光的強(qiáng)度不足以改變非線性材料的折射率時(shí),信號(hào)光經(jīng)過光傳輸器件傳輸至輸出波導(dǎo)輸出,實(shí)現(xiàn)全光開關(guān)的打開;非線性材料具有三階非線性系數(shù),基于三階非線性光學(xué)克爾效應(yīng),當(dāng)增加信號(hào)光的光強(qiáng),使得非線性材料的折射率發(fā)生改變時(shí),信號(hào)光不能通過光傳輸器件傳輸至出射波導(dǎo)輸出,從而實(shí)現(xiàn)全光開關(guān)的斷開。
光傳輸器件的下表面設(shè)置襯底層,上表面為空氣層。襯底層的材料采用二氧化硅、二氧化鈦和石英玻璃中的一種。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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