[發明專利]基于對抗生成網絡的圖像印章去除方法、裝置及相關設備

有效

• 申請號: 202110295212.7
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN112950458B
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發明（設計）人: 劉雨桐;石強;熊嬌;王國勛;張興
• 申請（專利權）人: 潤聯軟件系統（深圳）有限公司
• 主分類號: G06T3/00
• 分類號: G06T3/00;G06N3/04;G06N3/08
• 代理公司: 深圳市精英專利事務所 44242
• 代理人: 武志峰

1.一種基于對抗生成網絡的圖像印章去除方法，其特征在于，包括：

獲取不同圖像類別的樣本圖像以及圖像處理模型，其中，所述圖像類別包括有印章類別和無印章類別，所述圖像處理模型包括第一對抗生成網絡、第二對抗生成網絡以及分類模型；

利用所述分類模型對樣本圖像進行圖像判別，得到有印章類別的樣本圖像和無印章類別的樣本圖像，所述圖像判別還用于確定所述第一對抗生成網絡和第二對抗生成網絡輸出的圖像為有印章類別或無印章類別；

將有印章類別的樣本圖像作為第一原始圖像先輸入至所述第一對抗生成網絡進行去印章處理，得到第一生成圖像，并將所述第一生成圖像輸入所述分類模型進行圖像判別；再將所述第一生成圖像輸入至所述第二對抗生成網絡進行印章還原處理，得到第一還原圖像，并將所述第一還原圖像輸入所述分類模型進行圖像判別；

將無印章類別的樣本圖像作為第二原始圖像先輸入至所述第二對抗生成網絡進行印章還原處理，得到第二生成圖像，并將所述第二生成圖像輸入所述分類模型進行圖像判別；再將所述第二生成圖像輸入至所述第一對抗生成網絡進行去印章處理，得到第二還原圖像，并將所述第二還原圖像輸入所述分類模型進行圖像判別；

根據預置的損失函數計算所述第一原始圖像和第一還原圖像以及第二原始圖像和第二還原圖像的損失值，根據所述損失值優化所述圖像處理模型的模型參數，得到最優的圖像處理模型；

獲取待去除印章的目標處理圖像，將所述目標處理圖像輸入至所述第一對抗生成網絡進行去印章處理，得到所述目標處理圖像對應的無印章圖像。

2.根據權利要求1所述的圖像印章去除方法，其特征在于，所述第一對抗生成網絡及第二對抗生成網絡均包括生成器網絡和判別器網絡，所述生成器網絡采用Unet網絡結構。

3.根據權利要求2所述的圖像印章去除方法，其特征在于，所述生成器網絡包括三個下采樣單元、三個殘差模塊以及三個上采樣單元，每一所述殘差模塊由兩個卷積層構成。

4.根據權利要求1所述的圖像印章去除方法，其特征在于，所述將有印章類別的樣本圖像作為第一原始圖像先輸入至所述第一對抗生成網絡進行去印章處理，得到第一生成圖像，包括：

通過所述第一對抗生成網絡的下采樣單元對所述第一原始圖像進行預設多個維度的下采樣特征提取，得到所述第一原始圖像在所述多個維度內的第一下采樣特征；

通過所述第一對抗生成網絡的殘差模塊組合所述多個維度內的第一下采樣特征得到第一中間特征，并通過所述第一對抗生成網絡的上采樣單元對所述第一中間特征進行上采樣特征提取，得到第一上采樣特征；

根據所述第一上采樣特征還原出與所述第一原始圖像同一維度的圖像，作為所述第一生成圖像。

5.根據權利要求1所述的圖像印章去除方法，其特征在于，所述將所述第一生成圖像輸入至所述第二對抗生成網絡進行印章還原處理，得到第一還原圖像，包括：

通過所述第二對抗生成網絡的下采樣單元對所述第一生成圖像進行多個維度的下采樣特征提取，得到所述第一生成圖像在所述多個維度內的第二下采樣特征；

通過所述第二對抗生成網絡的殘差模塊組合所述多個維度內的第二下采樣特征得到第二中間特征，并通過所述第二對抗生成網絡的上采樣單元對所述第二中間特征進行上采樣特征提取，得到第二上采樣特征；

根據所述第二上采樣特征還原出與所述第一生成圖像同一維度的圖像，得到所述第一還原圖像。

6.根據權利要求1所述的圖像印章去除方法，其特征在于，所述損失函數包括第一對抗生成網絡和第二對抗生成網絡的一致性損失、分類模型損失、第一對抗生成網絡的對抗損失和第二對抗生成網絡的對抗損失。