[發(fā)明專利]一種新型的紅外和可見光圖像融合算法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110294376.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112950519B | 公開(公告)日: | 2022-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 齊東浩;余毅;高策;張艷超;唐伯浩;徐嘉興;宋聰聰;劉晏瑞;張馨元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G06T5/50 | 分類號(hào): | G06T5/50;G06T5/00;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春眾邦菁華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 22214 | 代理人: | 張偉 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 新型 紅外 可見光 圖像 融合 算法 | ||
1.一種新型的紅外和可見光圖像融合算法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:利用非下采樣輪廓變換對(duì)預(yù)配準(zhǔn)的紅外圖像I1和可見光圖像I2分別進(jìn)行多尺度變換,得到所述紅外圖像I1對(duì)應(yīng)的帶通分量和低通分量以及所述可見光圖像I2對(duì)應(yīng)的帶通分量和低通分量
步驟二:利用深層神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)引導(dǎo)圖像深度特征的方法對(duì)所述低通分量和所述低通分量進(jìn)行融合,得到低通分量融合圖像Fd(x,y);
步驟二包括以下步驟:
步驟二一:利用深度殘差神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)ResNet152分別對(duì)所述低通分量和所述低通分量進(jìn)行特征提取,得到所述低通分量對(duì)應(yīng)的特征映射和所述低通分量對(duì)應(yīng)的特征映射其中N為深度殘差神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)ResNet152的最大卷積塊序號(hào);
步驟二二:對(duì)所述特征映射和所述特征映射分別依次進(jìn)行L1正則化和上采樣操作,得到對(duì)應(yīng)的權(quán)重映射W1d(x,y)和權(quán)重映射
步驟二三:根據(jù)所述權(quán)重映射W1d(x,y)和所述權(quán)重映射對(duì)所述低通分量和所述低通分量進(jìn)行加權(quán)融合,得到低通分量融合圖像Fd(x,y);
步驟三:利用取模最大值的方法對(duì)所述帶通分量和所述帶通分量進(jìn)行比較,選擇最大值作為帶通分量融合的權(quán)值,并根據(jù)所述權(quán)值和公式(6)對(duì)所述帶通分量和所述帶通分量進(jìn)行融合,得到帶通分量融合圖像Fb(x,y);
其中,(x,y)表示和Fb(x,y)的像素位置;
步驟四:將所述低通分量融合圖像Fd(x,y)和所述帶通分量融合圖像Fb(x,y)通過非下采樣輪廓變換的逆變換進(jìn)行重建,得到最終的融合圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型的紅外和可見光圖像融合算法,其特征在于,步驟二二包括以下步驟:
深度殘差神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)ResNet152對(duì)所述低通分量和所述低通分量進(jìn)行特征提取得到的深層特征首先經(jīng)過L1正則化,獲得初始權(quán)重映射其公式如下所示:
其中,m表示每個(gè)特征層所具有的通道數(shù)量,x、y分別代表著特征映射在二維數(shù)組中的行和列,t代表步長(zhǎng),η為權(quán)值參數(shù);
利用雙三次插值運(yùn)算分別對(duì)初始權(quán)重映射和初始權(quán)重映射進(jìn)行上采樣操作,計(jì)算公式如下:
其中,W1d(x,y)為所述特征映射對(duì)應(yīng)的權(quán)重映射,為所述特征映射對(duì)應(yīng)的權(quán)重映射。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型的紅外和可見光圖像融合算法,其特征在于,
最大卷積塊序號(hào)N的取值為N=5,權(quán)值參數(shù)的取值為η=2。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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