[發(fā)明專利]一種高活性的g-C3 在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110293955.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113019418A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉世興;張明怡;王茜;陶然;范曉星 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 遼寧大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B01J27/24 | 分類號(hào): | B01J27/24;B01J37/08;B01D53/86;B01D53/72 |
| 代理公司: | 沈陽(yáng)杰克知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 21207 | 代理人: | 金春華 |
| 地址: | 110000 遼寧*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 活性 base sub | ||
本發(fā)明公開(kāi)了甲醛處理Fe離子摻雜g?C3N4光催化材料及其制備方法和應(yīng)用。將一定質(zhì)量的鐵鹽溶解在去離子水中,然后將三聚氰胺加入該溶液中,攪拌、超聲至粉末混合均勻;將所得沉淀物置于烘箱烘干,烘干后放入去離子水中,水浴攪拌至溶液澄清,滴入一定摩爾比的甲醛溶液,水浴攪拌一定時(shí)間后,放入烘箱中烘干,得前驅(qū)體,在氮?dú)猸h(huán)境下將前驅(qū)體進(jìn)行高溫煅燒,得甲醛處理的Fe?g?C3N4。利用本發(fā)明的方法制備的甲醛處理的Fe離子摻雜g?C3N4光催化材料,改善了g?C3N4在可見(jiàn)光下對(duì)自然光響應(yīng)低的缺陷,降低了電子空穴對(duì)復(fù)合率,提高了光降解速率,進(jìn)而可以有效的提高光催化活性,該方法成本低、方法簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)潔。利用其在自然光下,通過(guò)光照可降解有機(jī)污染物。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光催化技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種高活性的g-C3N4光催化材料及其制備方法和應(yīng)用。
背景技術(shù)
隨著人類社會(huì)的發(fā)展,化石燃料的燃燒引發(fā)了一系列嚴(yán)重的環(huán)境問(wèn)題,太陽(yáng)能的獲取和轉(zhuǎn)化為可用能源已經(jīng)成為人類社會(huì)的關(guān)鍵問(wèn)題。近年來(lái),光催化降解有機(jī)污染物以其無(wú)污染、反應(yīng)條件溫和等優(yōu)點(diǎn)受到越來(lái)越多的關(guān)注。然而,由于光催化材料自身帶寬的影響,帶隙寬度越大,光響應(yīng)范圍越小,光催化利用率越低。光催化技術(shù)被廣泛認(rèn)為是解決環(huán)境問(wèn)題的有效方法。石墨化碳氮化(g-C3N4)光催化劑是一種價(jià)格低廉、資源豐富、穩(wěn)定性好的光催化材料,被認(rèn)為是具有凈化污染和節(jié)能前景的光催化材料。然而,通過(guò)加熱富氮前驅(qū)體得到g-C3N4由于比表面積小、電荷重組快,效率較低,限制了其工業(yè)應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明的提供一種甲醛處理的Fe離子摻雜g-C3N4光催化材料及其制備方法,該方法易操作、簡(jiǎn)單、方便、成本低、條件溫和、有利于大規(guī)模生產(chǎn)。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種高活性g-C3N4光催化材料,制備方法包括如下步驟:
1)將鐵鹽加入溶劑中,隨后加入三聚氰胺,在磁力攪拌器下攪拌均勻,超聲,烘干;
2)將步驟1)得到的物質(zhì)放入溶劑中,水浴并攪拌,逐滴加入甲醛溶液,將所得混合液放入烘箱中,烘干得前驅(qū)體;
3)將前驅(qū)體研磨,在氮?dú)猸h(huán)境下高溫煅燒,得目標(biāo)產(chǎn)物高活性g-C3N4。
優(yōu)選地,上述的一種高活性g-C3N4光催化材料,步驟1)中,所述鐵鹽為氯化高鐵或者九水硝酸鐵。
優(yōu)選地,上述的一種高活性g-C3N4光催化材料,步驟1)中,按摩爾比,鐵鹽:三聚氰胺=0.001-0.005:1。
優(yōu)選地,上述的一種高活性g-C3N4光催化材料,步驟2)中,烘干溫度為50-100℃。
優(yōu)選地,上述的一種高活性g-C3N4光催化材料,按摩爾比,甲醛:三聚氰胺=0.001-0.005:1。
優(yōu)選地,上述的一種高活性g-C3N4光催化材料,步驟3)中,高溫煅燒溫度為550℃,時(shí)間為4h。
優(yōu)選地,上述的一種高活性g-C3N4光催化材料,高溫煅燒的升溫速率為2.5℃/min。
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