[發明專利]低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法在審
| 申請號： | 202110293659.0 | 申請日： | 2021-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN113048852A | 公開（公告）日： | 2021-06-29 |
| 發明（設計）人： | 林啟偉;陳志婷 | 申請（專利權）人： | 福建興萬祥建設集團有限公司 |
| 主分類號： | F42D1/00 | 分類號： | F42D1/00;F42D1/08;F42D3/04;E21C37/00 |
| 代理公司： | 廈門原創專利事務所(普通合伙) 35101 | 代理人： | 魏思凡 |
| 地址： | 364000 福建省龍*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 品位 金屬 貧化 控制 高效 爆破 | ||
1.低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述高效爆破法包括以下步驟：
在礦巖分界線設置分化爆破孔；
在礦體設置多排主爆破孔；
每排所述主爆破孔交錯排列；
設置所述主爆破孔的孔距3-7m；所述主爆破孔的排距4-8m；
采用不耦合-間隔裝藥的方式安放炸藥；
采用延時微差爆破方式進行爆破。
2.根據權利要求1所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述分化爆破孔的孔距是所述主爆破孔的孔距的0.55-0.75倍。
3.根據權利要求2所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述主爆破孔的孔徑為100-150mm；所述分化爆破孔75-90mm。
4.根據權利要求1所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述分化爆破孔與相鄰的所述主爆破孔的間距是所述爆破孔排距的0.6-0.8倍。
5.根據權利要求1所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，在所述主爆破孔的不耦合-間隔裝藥的不耦合系數為1.3-1.6；所述分化爆破孔的不耦合系數為1.1-1.3。
6.根據權利要求1所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述不耦合-間隔裝藥的間隔裝藥按照炸藥長度與間隔填充物長度2-3:1的長度填裝。
7.根據權利要求6所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述間隔填充物為炮泥或巖渣。
8.根據權利要求7所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述裝藥長度為孔徑的15-20倍。
9.根據權利要求1所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述分化爆破孔比所述主爆破孔延時爆破45-60ms。
10.根據權利要求8所述低品位金屬礦貧化控制的高效爆破法，其特征在于，所述主爆破孔的排間延期間隔為3-15ms/m。
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