[發明專利]一種去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置和方法

在審

• 申請號: 202110293152.5
• 申請日: 2021-03-18
• 公開（公告）號: CN112892192A
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發明（設計）人: 王敏強;林勇;李培林;江清亮
• 申請（專利權）人: 寧夏福瑞硅烷材料有限公司
• 主分類號: B01D53/78
• 分類號: B01D53/78;B01D53/44;B01D53/00;C01B7/07
• 代理公司: 北京化育知識產權代理有限公司 11833
• 代理人: 秦麗

1.一種去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置，包括一級除醇裝置(1)、二級除醇裝置(2)和沉降罐，其特征在于：所述一級除醇裝置(1)和二級除醇裝置(2)之間通過沉降罐(3)相連通；

所述一級除醇裝置(1)包括一級淋洗塔(4)和一級循環噴淋泵(7)，所述一級淋洗塔(4)的的輸入口固定安裝有一級循環噴淋泵(7)，所述一級淋洗塔(4)的輸出端與沉降罐(3)固定連接；

所述二級除醇裝置(2)包括二級淋洗塔(8)和二級循環噴淋泵(9)，所述二級循環噴淋泵(9)的輸出端與二級淋洗塔(8)固定連接，所述二級淋洗塔(8)的輸出端固定連接有冷凝器(10)，所述冷凝器(10)的輸出端固定安裝有除霧器(12)，所述除霧器(12)的輸出端固定安裝有氯化氫氣體輸出管(14)；

所述一級淋洗塔(4)和二級淋洗塔(8)的輸出端均與沉降罐(3)相連通。

2.根據權利要求1所述的一種去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置，其特征在于：所述一級淋洗塔(4)的表面開設有氯化氫氣體進入管(5)和第一四氯液體進口管(6)。

3.根據權利要求1所述的一種去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置，其特征在于：所述一級淋洗塔(4)和二級淋洗塔(8)的表面均設置有噴頭(13)，且噴頭(13)位于一級淋洗塔(4)和二級淋洗塔(8)表面的中部。

4.根據權利要求1所述的一種去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置，其特征在于：所述二級淋洗塔(8)與冷凝器(10)的連通處之間固定連接有第二四氯液體進口管(11)。

5.根據權利要求1所述的一種去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置，其特征在于：所述一級淋洗塔(4)和二級淋洗塔(8)的進口處均設置有疏堵螺桿。

6.一種利用權利要求1所述的去除氯化氫氣體中少量醇類雜質裝置的去除氯化氫氣體中少量醇類雜質的方法，其特征在于：具體包括以下步驟：

(1)含醇氯化氫氣體從一級除醇裝置(1)的進口進入一級淋洗塔(4)的下部，然后氯化氫氣體順著一級淋洗塔(4)的塔節往上走；

(2)一級淋洗塔(4)內有一定量的四氯化硅噴淋液，液體靠循環泵從塔頂噴嘴噴淋而下，與氯化氫氣體逆向接觸，氯化氫中的醇類與四氯化硅反應生成的脂類會隨液體落入一級淋洗塔(4)塔釜；

(3)氯化氫氣體從一級淋洗塔(4)的頂部出來以后進入二級淋洗塔(8)的下部，然后氯化氫氣體順著二級淋洗塔(8)的塔節往上走；

(4)二級淋洗塔(8)內有一定量的四氯化硅噴淋液，液體靠循環泵從塔頂噴嘴噴淋而下，與氯化氫氣體逆向接觸，氯化氫中的醇類與四氯化硅反應生成的脂類會隨液體落入二級淋洗塔(8)塔釜；

(3)氯化氫氣體從二級淋洗塔(8)的頂部出來以后，依次經過冷凝器(10)和除霧器(12)，去除氯化氫氣體中夾帶的四氯化硅；冷凝液和除霧器(12)的分離液返回二級塔釜。

7.根據權利要求6所述的去除氯化氫氣體中少量醇類雜質的方法，其特征在于：所述二級淋洗塔(8)頂部設置有擴大段。

8.根據權利要求6所述的去除氯化氫氣體中少量醇類雜質的方法，其特征在于：所述一級淋洗塔(4)和二級淋洗塔(8)的內部均設置有疏堵螺桿。

9.根據權利要求7所述的去除氯化氫氣體中少量醇類雜質的方法，其特征在于：所述淋洗塔的液體均從淋洗塔的錐體以上出來進入噴淋泵，以下部分屬于沉降段。