[發明專利]一種檢測鈷中雜質元素含量的方法有效
| 申請號: | 202110292450.2 | 申請日: | 2021-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN113049671B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發明(設計)人: | 姚力軍;潘杰;王學澤;鐘偉華;周童;余瓊;馬蘭 | 申請(專利權)人: | 寧波江豐電子材料股份有限公司;中國兵器科學研究院寧波分院 |
| 主分類號: | G01N27/68 | 分類號: | G01N27/68;G01N1/32;G01N1/34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 雜質 元素 含量 方法 | ||
本發明提供一種檢測鈷中雜質元素含量的方法,所述方法包括對樣品鈷依次進行打磨、第一酸洗和第二酸洗,得到處理后樣品鈷,對所述處理后樣品鈷進行輝光放電質譜分析,得到樣品鈷中的雜質元素含量;所述方法更加有效地對高純度鈷表面進行預處理,使預濺射時間顯著縮短,同時所述方法避免了樣品鈷被環境顆粒物影響,從而獲得更準確的數據。
技術領域
本發明涉及金屬中痕量雜質元素元素檢測技術領域,尤其涉及一種檢測鈷中雜質元素含量的方法。
背景技術
鈷是一種鐵磁性金屬,具有光澤的鋼灰色金屬,硬而脆。鈷是生產耐熱合金、硬質合金、防腐合金、磁性合金和各種鈷鹽的重要原料,廣泛應用于電池、航空發動機、機械和陶瓷等領域。
鈷在半導體行業也有一定的應用。目前電子薄膜用高純鈷靶材按純度分為4N5(99.995%)、5N(99.999%)兩個級別。目前國際上主要采用輝光放電質譜(Glow?DischargeMass?Spectrometry,GDMS)對高純固體材料進行痕量雜質元素檢測。
YS/T?1011-2014中對高純鈷的預處理:分別用冰醋酸或硝酸、水和無水乙醇清洗,自然晾干。用單獨一種酸對樣品進行酸洗,清洗效果不佳,測試預濺射時間過長(一般需30min以上);采用自然晾干一方面加長了樣品處理時間,另一方面可能吸收環境中的顆粒物而導致Si等元素含量偏高。
CN103884772A公開了一種輝光放電質譜法測定高純銦中的痕量雜質元素,其步驟為:將樣品切割成片狀,先用甲苯清洗樣品表面上的油污,再用超純水清洗,用50%(體積濃度)硝酸腐蝕8min,用超純水反復沖洗后,在紅外燈下烘干,根據輝光放電質譜儀定量分析原理,求出待測雜質元素的濃度。但該方法中未涉及鈷的雜質檢測,且采用甲苯清洗,危害人體健康,靈敏度和分辨率較低。
CN106198712A公開了一種輝光放電質譜法檢測金屬中痕量雜質元素含量的方法,該方法包括以下步驟:將金屬樣品加工成片狀或針狀,置于硝酸溶液中進行超聲清洗,烘干;將輝光放電質譜儀的樣品倉抽真空,打開球閥,將金屬樣品推入離子源腔內,打開高壓和輝光,通入工作氣體,調節放電電壓和放電電流;選擇金屬基體和需測定的雜質元素,進行直流輝光放電質譜分析,得到金屬痕量雜質元素的濃度,但該方法的預濺射時間較長,易被環境顆粒物影響。
CN110865168A公開了一種合金渣料中主量、微量和痕量元素的快速分析方法,它包括以下步驟:合金渣料進行超聲波堿液清洗、純水清洗、有機試劑超聲波清洗并吹干、使用合金渣料制作圓餅狀試樣、圓餅狀試樣壓制、打磨、拋光、有機試劑清洗并吹干,使用碳硫儀、氧氮氫分析儀、光譜儀、X射線熒光光譜儀、質譜儀中的至少一種儀器對圓餅狀試樣中主量元素、微量元素和痕量元素進行分析,但該方法易被環境中的雜質影響結果的準確度。
因此,有必要開發一種操作簡單,能夠顯著縮短預濺射時間,檢測方法準確度高的檢測鈷中雜質元素含量的方法。
發明內容
鑒于現有技術中存在的問題,本發明提供一種檢測鈷中雜質元素含量的方法,所述方法包括對樣品鈷依次進行打磨、第一酸洗和第二酸洗,隨后進行輝光放電質譜分析,得到樣品鈷中的雜質元素含量,所述方法更加有效地對純度高的鈷表面進行預處理,使預濺射時間顯著縮短,同時所述方法避免了樣品鈷被環境顆粒物影響,從而獲得更準確的數據。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
本發明提供一種檢測鈷中雜質元素含量的方法,所述方法包括以下步驟:
(1)對樣品鈷依次進行打磨、第一酸洗和第二酸洗,得到處理后樣品鈷;
(2)對步驟(1)所述處理后樣品鈷進行輝光放電質譜分析,得到樣品鈷中的雜質元素含量。
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