[發(fā)明專利]一種陣列基板及液晶顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110291079.8 | 申請日: | 2021-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN113050336A | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 于曉平 | 申請(專利權(quán))人: | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 張曉薇 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 液晶顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括襯底基板以及陣列設(shè)置在所述襯底基板上的多個像素單元,所述像素單元包括多個子像素及位于相鄰所述子像素之間的黑色矩陣;
所述子像素包括彩色子像素和白色子像素;
其中,所述彩色子像素為反射率大于85%的反射型彩色光阻層。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述彩色光阻層的組分包括質(zhì)量分數(shù)在6%~10%之間的高分子樹脂、質(zhì)量分數(shù)在6%~40%之間的反射型顏料、質(zhì)量分數(shù)在0~5%之間的反應單體、質(zhì)量分數(shù)在0~0.2%之間的光引發(fā)劑體系、質(zhì)量分數(shù)在0.1%~0.2%之間的添加劑以及質(zhì)量分數(shù)在50%~80%之間的溶劑。
3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述反射型顏料的顯色粒子為包含有具有核殼結(jié)構(gòu)的聚合物微球粒子。
4.如權(quán)利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述反射型顏料包括紅色反射型顏料、綠色反射型顏料以及藍色反射型顏料。
5.如權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述聚合物微球粒子的粒徑范圍在150納米~300納米之間。
6.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述白色子像素的材料包括光刻膠,所述光刻膠包括質(zhì)量分數(shù)在6%~10%之間的高分子樹脂、質(zhì)量分數(shù)在5%-50%之間的納米粒子、質(zhì)量分數(shù)在0~5%之間的反應單體、質(zhì)量分數(shù)在0~0.2%之間的光引發(fā)劑體系、質(zhì)量分數(shù)在0.1%~0.2%之間的添加劑以及質(zhì)量分數(shù)在50%~80%之間的溶劑。
7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板,其特征在于,所述納米粒子為二氧化鈦,所述納米粒子的粒徑范圍在150納米~300納米之間。
8.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括設(shè)置于所述襯底基板和所述子像素之間的多個薄膜晶體管、位于所述多個薄膜晶體管和所述子像素之間的第一絕緣層、位于所述子像素遠離所述多個薄膜晶體管一側(cè)的第二絕緣層以及位于所述第二絕緣層遠離所述子像素一側(cè)的多個像素電極。
9.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述彩色子像素包括紅色子像素、綠色子像素以及藍色子像素。
10.一種液晶顯示面板,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-9任一項所述陣列基板以及對盒基板,所述陣列基板與所述對盒基板之間設(shè)置有液晶層。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





