[發(fā)明專利]一種弱小目標(biāo)檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110289389.6 | 申請日: | 2021-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN112990317B | 公開(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫佳琪;朱明;劉長吉;聶海濤 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號: | G06V10/80 | 分類號: | G06V10/80;G06V10/762 |
| 代理公司: | 長春中科長光知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 22218 | 代理人: | 高一明;郭婷 |
| 地址: | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 弱小 目標(biāo) 檢測 方法 | ||
本發(fā)明涉及圖像目標(biāo)技術(shù)檢測領(lǐng)域。提供一種弱小目標(biāo)檢測方法,采用單階段檢測器YOLO,輸入圖像先經(jīng)過2倍下采樣,再通過高分辨率主干網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行低倍率下采樣,將獲得的特征圖進(jìn)行特征融合,再分別輸入到檢測頭中進(jìn)行檢測;同時將下采樣后的特征圖接入到注意力模塊中進(jìn)行處理,輸出的特征圖再次進(jìn)行特征融合預(yù)測,得到最后的預(yù)測結(jié)果。滿足了弱小目標(biāo)檢測的實(shí)際需求,提高了弱小目標(biāo)檢測效果,對弱小目標(biāo)的檢測有一定精度上的提升。且本發(fā)明采用的保留小尺寸目標(biāo)檢測與高分辨率主干網(wǎng)絡(luò),注意力機(jī)制相結(jié)合的方法,可以實(shí)現(xiàn)對弱小目標(biāo)的快速有效檢測、同時也能夠進(jìn)行部分類別的識別。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像目標(biāo)技術(shù)檢測領(lǐng)域,具體涉及一種弱小目標(biāo)檢測技術(shù)。
背景技術(shù)
小目標(biāo)檢測是圖像中像素占比少的目標(biāo),尺寸較小,深度網(wǎng)絡(luò)能夠提取到的特征信息十分有限,小目標(biāo)在圖像中的輪廓、紋理和形狀等特征往往不明顯。目前最先進(jìn)的技術(shù)是借助計(jì)算機(jī)視覺在圖像中找到并判斷該目標(biāo)所屬類別的目標(biāo)檢測技術(shù)。但是在檢測器檢測的過程中往往會忽視掉小目標(biāo)的這部分特征。與目前應(yīng)用較為成熟的大尺度、中尺度目標(biāo)檢測不同,小目標(biāo)自身存在著語義信息少、覆蓋面積小等先天不足,導(dǎo)致小目標(biāo)的檢測效果并不理想。目前所使用的單階段檢測器YOLO有著比較快的檢測精度以及較高的準(zhǔn)確率。但是目前的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)中,并非針對于弱小目標(biāo)的檢測,基于此,本發(fā)明對其進(jìn)行弱小目標(biāo)的適應(yīng)性改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服已有得技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種弱小目標(biāo)檢測技術(shù)。滿足弱小目標(biāo)檢測的實(shí)際需求,提高目前弱小目標(biāo)檢測效果。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下具體技術(shù)方案:
本發(fā)明提供一種弱小目標(biāo)檢測方法,采用單階段檢測器YOLO,輸入圖像先經(jīng)過2倍下采樣,再通過高分辨率主干網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行低倍率下采樣,將獲得的特征圖進(jìn)行特征融合,再分別輸入到檢測頭中進(jìn)行檢測;同時將下采樣后的特征圖接入到注意力模塊中進(jìn)行處理,輸出的特征圖再次進(jìn)行特征融合預(yù)測,得到最后的預(yù)測結(jié)果。
優(yōu)選地,對所述單階段檢測器YOLO在針對弱小目標(biāo)時的預(yù)選框進(jìn)行K-Means聚類,得到最合適尺寸的預(yù)選框,對目標(biāo)最大概率覆蓋。
優(yōu)選地,高分辨率主干網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)為空間特征金字塔結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選地,所述高分辨率主干網(wǎng)絡(luò)的采樣步驟為:
S101:進(jìn)行不同倍數(shù)下采樣,獲取圖像精細(xì)特征;
S102:對S1中得到的特征圖案進(jìn)行卷積操作改變特征圖案大小;
S103:完成上采樣,同時進(jìn)行分步預(yù)測。
優(yōu)選地,步驟S1所述下采樣倍數(shù)為4倍,8倍,16倍。
優(yōu)選地,下采樣過程中的每一倍數(shù)層通過卷積操作改變特征圖大小使之能與上采樣過程中的相應(yīng)的特征圖進(jìn)行特征融合。
優(yōu)選地,所述注意力模塊通過關(guān)注目標(biāo)的有判別性特征區(qū)域,在檢測過程中對檢測目標(biāo)的特征信息不斷細(xì)化。
優(yōu)選地,所述注意力模塊處理步驟為:
S201:輸入特征Q,大小為H×W×C,經(jīng)過平均池化處理為1×1×C大小;
S202:經(jīng)過Relu激活函數(shù)以及全連接后層輸出特征Q1大小為1×1×C1,C1=H×W×C/r;
S203:經(jīng)過Sigmoid函數(shù)以及全連接層輸出特征Q2,大小為1×1×C2,C2=H×W×C;
S204:最后通過整形操作處理成H×W×C的特征,再與輸入原始特征Q進(jìn)行哈達(dá)瑪積處理,輸出最終的特征圖;
其中H、W、C為輸入特征Q的高、寬和通道數(shù);r為指比率。
本發(fā)明能取得以下技術(shù)效果:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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