[發(fā)明專利]一種屏下攝像頭的顯示面板和制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110287763.9 | 申請日: | 2021-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN113161374B | 公開(公告)日: | 2022-11-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙星;于東亮;蔡紅燕 | 申請(專利權(quán))人: | 上海和輝光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L21/84;G09F9/30 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 201500 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 攝像頭 顯示 面板 制備 方法 | ||
1.一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,包括:
一顯示區(qū);
一屏下攝像區(qū),所述屏下攝像區(qū)位于所述顯示區(qū)任意位置;
所述屏下攝像區(qū)包括:
一攝像區(qū);
過渡區(qū),至少設(shè)置于所述攝像區(qū)的一側(cè)并與所述攝像區(qū)相連;
一電極圖形層,位于所述攝像區(qū);
復(fù)數(shù)個導(dǎo)電層,設(shè)置于所述攝像區(qū)和/或所述過渡區(qū)中;
復(fù)數(shù)個介質(zhì)層,用以隔離所述復(fù)數(shù)個導(dǎo)電層;
其中,位于所述攝像區(qū)的所述復(fù)數(shù)個導(dǎo)電層及所述復(fù)數(shù)個介質(zhì)層均為透明材質(zhì),所述過渡區(qū)中設(shè)置所述攝像區(qū)的驅(qū)動電路并通過所述電極圖形層及所述復(fù)數(shù)個導(dǎo)電層連接;
所述介質(zhì)層包括柵極絕緣層、第一接觸孔層、第二接觸孔層、保護(hù)層、第一平坦層和第二平坦層,所述導(dǎo)電層包括第一數(shù)據(jù)線層、第二數(shù)據(jù)線層、第一導(dǎo)電線層、第二導(dǎo)電線層和第三導(dǎo)電線層;
所述柵極絕緣層從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
所述第一接觸孔層設(shè)置于所述柵極絕緣層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
所述第二接觸孔層設(shè)置于所述第一接觸孔層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
所述第一數(shù)據(jù)線層設(shè)置于所述第二接觸孔層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
所述保護(hù)層設(shè)置于所述第一數(shù)據(jù)線層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
所述第一平坦層設(shè)置于所述保護(hù)層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
所述第二數(shù)據(jù)線層設(shè)置于所述第一平坦層上,所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)均設(shè)置有所述第二數(shù)據(jù)線層;
所述第二平坦層設(shè)置于所述第二數(shù)據(jù)線層和所述第一平坦層上;
其中,在所述第一數(shù)據(jù)線層的同層設(shè)置第一導(dǎo)電線層,在所述第二數(shù)據(jù)線層的同層設(shè)置第二導(dǎo)電線層,在所述保護(hù)層的同層設(shè)置第三導(dǎo)電線層;
所述第二導(dǎo)電線層貫穿所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,所述導(dǎo)電層還包括第四導(dǎo)電線層;
所述電極圖形層位于所述第二平坦層的上方;
第四導(dǎo)電線層貫穿所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū),且在所述攝像區(qū)與所述電極圖形層同層;
位于所述過渡區(qū)的所述第四導(dǎo)電線層在所述第二平坦層上。
3.如權(quán)利要求2所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,位于所述攝像區(qū)的所述第二平坦層具有使所述電極圖形層和所述第二數(shù)據(jù)線層接觸的接觸孔。
4.如權(quán)利要求2所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,在所述攝像區(qū),在所述電極圖形層上設(shè)置有光感測層和像素區(qū)域;
在所述過渡區(qū)的所述第四導(dǎo)電線層上設(shè)置有所述光感測層和所述像素區(qū)域。
5.如權(quán)利要求1所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,所述導(dǎo)電層還包括第五導(dǎo)電線層;
在所述第一接觸孔層和所述第二接觸孔層之間的夾層設(shè)置所述第五導(dǎo)電線層;
所述第五導(dǎo)電線層貫穿所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū);
所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)的所述第二接觸孔層分別開設(shè)有用于使所述第一數(shù)據(jù)線層和用于設(shè)置所述第五導(dǎo)電線層接觸的接觸孔。
6.如權(quán)利要求1所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,在所述柵極絕緣層的下層還設(shè)置有緩沖層。
7.如權(quán)利要求6所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)分別設(shè)置有貫穿所述第一接觸孔層、所述第二接觸孔層和所述柵極絕緣層三層且用于使所述第一數(shù)據(jù)線層和所述緩沖層接觸的接觸孔。
8.如權(quán)利要求1所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,其特征在于,所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)的保護(hù)層分別設(shè)置有用于使所述第一數(shù)據(jù)線層和所述第二數(shù)據(jù)線層接觸的接觸孔。
9.一種屏下攝像頭的顯示面板的制備方法,其特征在于,用于制備如權(quán)利要求2-8任意一項(xiàng)所述的一種屏下攝像頭的顯示面板,所述顯示面板具有顯示區(qū)和屏下攝像區(qū),所述屏下攝像區(qū)位于所述顯示區(qū)任意位置,包括如下步驟:
步驟A1,制作柵極絕緣層,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
步驟A2,制作第一接觸孔層,設(shè)置于所述柵極絕緣層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
步驟A3,制作第二接觸孔層,設(shè)置于所述第一接觸孔層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
步驟A4,制作第一數(shù)據(jù)線層,設(shè)置于所述第二接觸孔層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū),在所述第一數(shù)據(jù)線層的同層制作第一導(dǎo)電線層;
步驟A5,制作保護(hù)層,設(shè)置于所述第一數(shù)據(jù)線層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū),在所述保護(hù)層的同層制作第三導(dǎo)電線層;
步驟A6,制作第一平坦層,設(shè)置于所述保護(hù)層上,從所述攝像區(qū)延伸至過渡區(qū);
步驟A7,制作第二數(shù)據(jù)線層,設(shè)置于所述第一平坦層上,所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)均設(shè)置有所述第二數(shù)據(jù)線層,在所述第二數(shù)據(jù)線層的同層制作有第二導(dǎo)電線層;
步驟A8,制作第二平坦層,設(shè)置于所述第二數(shù)據(jù)線層和所述第一平坦層上;
其中,所述第二導(dǎo)電線層貫穿所述攝像區(qū)和所述過渡區(qū)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海和輝光電股份有限公司,未經(jīng)上海和輝光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110287763.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





