[發(fā)明專利]一種R-T-B磁體及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110286519.0 | 申請日: | 2021-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN112992460B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 牟維國;黃佳瑩 | 申請(專利權(quán))人: | 福建省長汀金龍稀土有限公司 |
| 主分類號: | H01F1/057 | 分類號: | H01F1/057;H01F1/055;H01F41/02 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 王衛(wèi)彬;鄒玲 |
| 地址: | 366300 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁體 及其 制備 方法 | ||
1.一種R-T-B磁體,其特征在于,其包括以下組分:R:≥29wt.%,所述R為稀土元素,所述R含有Nd;
所述Nd≥22wt.%;
Ti+Nb:0.2~0.75wt.%;
Cu:0.05~0.45wt.%;
B:0.955~1.15wt.%;
Fe:58~69wt.%;wt.%為各組分的質(zhì)量與各組分總質(zhì)量的比;所述Ti與所述Nb的質(zhì)量比為(1~5):1;
所述R包括重稀土元素RH,所述RH的含量在2.5wt%以下,所述RH為Tb和/或Dy;
所述的R-T-B磁體包括TixNb1相,所述X為3~5,所述TixNb1相位于富Nd相和主相顆粒之間,所述TixNb1相的面積與主相顆粒的總面積比為1~2%。
2.如權(quán)利要求1所述的R-T-B磁體,其特征在于,所述R的含量為30~32wt.%;
和/或,所述Nd的含量為25~31wt.%;
和/或,所述R的種類包括Pr。
3.如權(quán)利要求2所述的R-T-B磁體,其特征在于,所述R的含量為30wt.%、30.6wt.%、30.7wt.%或31.2wt.%;
和/或,所述Nd的含量為28.5wt.%、28.7wt.%、29.1wt.%、29.2wt.%、29.3wt.%、29.5wt.%、29.7wt.%或30.4wt.%;
和/或,所述Pr的含量在0.3wt.%以下,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
和/或,當(dāng)所述RH含有Tb時,所述Tb的含量為0.5~1.4wt.%,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
和/或,當(dāng)所述RH含有Dy時,所述Dy的含量為0.5~2wt.%,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
和/或,所述RH的原子百分含量與所述R的原子百分含量的比值為0.1以下。
4.如權(quán)利要求2所述的R-T-B磁體,其特征在于,所述Pr的含量為0.2wt.%,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
和/或,所述RH的含量為0.5wt.%、0.8wt.%、1wt.%、1.1wt.%、1.4wt.%、2wt.%或2.2wt.%,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
當(dāng)所述RH含有Tb時,所述Tb的含量為0.5wt.%、0.6wt.%、0.8wt.%、1wt.%、1.1wt.%或1.4wt.%,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
當(dāng)所述RH含有Dy時,所述Dy的含量為0.5wt.%、1wt.%、1.6wt.%或2wt.%,wt.%為占各組分總質(zhì)量的百分比;
和/或,所述RH的原子百分含量與所述R的原子百分含量的比值為0.02、0.04或0.06。
5.如權(quán)利要求1所述的R-T-B磁體,其特征在于,所述Ti+Nb的含量為0.22~0.7wt.%;
和/或,所述Ti與所述Nb的質(zhì)量比為(1.2~4.8):1;
和/或,所述Ti的含量為0.12~0.56wt.%;
和/或,所述Nb的含量為0.08~0.14wt.%。
6.如權(quán)利要求5所述的R-T-B磁體,其特征在于,所述Ti+Nb的含量為0.22wt.%、0.28wt.%、0.35wt.%、0.38wt.%、0.45wt.%、0.58wt.%、0.59wt.%或0.7wt.%;
和/或,所述Ti與所述Nb的質(zhì)量比為1.2:1、1.8:1、2.5:1、3.5:1、3.8:1、4:1或4.8:1;
和/或,所述Ti的含量為0.12wt.%、0.18wt.%、0.25wt.%、0.3wt.%、0.35wt.%、0.48wt.%或0.56wt.%;
和/或,所述Nb的含量為0.08wt.%、0.1wt.%、0.11wt.%或0.14wt.%。
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