[發(fā)明專利]手勢(shì)識(shí)別方法及裝置、電子設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110286183.8
• 申請(qǐng)日: 2021-03-17
• 公開（公告）號(hào): CN112965639A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周嶺松
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京小米移動(dòng)軟件有限公司;北京小米松果電子有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/043
• 分類號(hào): G06F3/043;G06F3/01
• 代理公司: 北京善任知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11650
• 代理人: 張振偉

1.一種手勢(shì)識(shí)別方法，其特征在于，應(yīng)用于第一電子設(shè)備中，所述方法包括：

采集根據(jù)預(yù)設(shè)手勢(shì)反射回的聲波信號(hào)；

在所述聲波信號(hào)的發(fā)送方為第二電子設(shè)備的情況下，對(duì)所述聲波信號(hào)進(jìn)行校正處理，以識(shí)別所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率；其中，所述第一電子設(shè)備與所述第二電子設(shè)備為位于同一聲場空間中的不同設(shè)備；

基于所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率，確定所述手勢(shì)對(duì)應(yīng)的交互指令。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對(duì)所述聲波信號(hào)進(jìn)行校正處理，以識(shí)別所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率，包括：

基于所述聲波信號(hào)，確定所述手勢(shì)的原始運(yùn)動(dòng)變化曲線；

對(duì)所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線進(jìn)行校正，得到目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線；

基于所述目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線，識(shí)別所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述對(duì)所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線進(jìn)行校正，得到目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線，包括：

確定曲線偏移斜率，所述曲線偏移斜率用于表征所述第一電子設(shè)備和所述第二電子設(shè)備之間的時(shí)鐘漂移程度；

基于所述曲線偏移斜率對(duì)所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線進(jìn)行校正，得到所述目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述確定曲線偏移斜率，包括：

獲取預(yù)設(shè)時(shí)間范圍內(nèi)的第一運(yùn)動(dòng)距離；

基于所述預(yù)設(shè)時(shí)間范圍內(nèi)的所述第一運(yùn)動(dòng)距離，確定所述曲線偏移斜率。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述曲線偏移斜率對(duì)所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線進(jìn)行校正，得到所述目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線，包括：

基于所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線，獲取不同時(shí)刻對(duì)應(yīng)的第二運(yùn)動(dòng)距離；

基于曲線偏移斜率與所述不同時(shí)刻的乘積，得到所述不同時(shí)刻對(duì)應(yīng)的偏移量；

基于不同時(shí)刻對(duì)應(yīng)的所述第二運(yùn)動(dòng)距離和所述不同時(shí)刻對(duì)應(yīng)的所述偏移量，得到所述不同時(shí)刻對(duì)應(yīng)的第三運(yùn)動(dòng)距離；

基于所述不同時(shí)刻對(duì)應(yīng)的所述第三運(yùn)動(dòng)距離，形成所述目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述聲波信號(hào)，確定所述手勢(shì)的原始運(yùn)動(dòng)變化曲線，包括：

基于對(duì)所述聲波信號(hào)進(jìn)行相位測(cè)距或者多普勒測(cè)距，確定所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述發(fā)送方為所述第一電子設(shè)備的情況，直接基于所述聲波信號(hào)來識(shí)別所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6任選一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述第二電子設(shè)備為所述同一聲場空間中優(yōu)先級(jí)最高的設(shè)備。

9.一種手勢(shì)識(shí)別裝置，其特征在于，應(yīng)用于第一電子設(shè)備中，所述裝置包括：

采集模塊，配置為采集根據(jù)預(yù)設(shè)手勢(shì)反射回的聲波信號(hào)；

校正模塊，配置為在所述聲波信號(hào)的發(fā)送方為第二電子設(shè)備的情況下，對(duì)所述聲波信號(hào)進(jìn)行校正處理，以識(shí)別所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率；其中，所述第一電子設(shè)備與所述第二電子設(shè)備為位于同一聲場空間中的不同設(shè)備；

確定模塊，配置為基于所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率，確定所述手勢(shì)對(duì)應(yīng)的交互指令。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述校正模塊，包括：

曲線確定模塊，配置為基于所述聲波信號(hào)，確定所述手勢(shì)的原始運(yùn)動(dòng)變化曲線；

第一校正確定模塊，配置為對(duì)所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線進(jìn)行校正，得到目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線；

識(shí)別模塊，配置為基于所述目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線，識(shí)別所述手勢(shì)的動(dòng)作頻率。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于，所述校正確定模塊，包括：

斜率確定模塊，配置為確定曲線偏移斜率，所述曲線偏移斜率用于表征所述第一電子設(shè)備和所述第二電子設(shè)備之間的時(shí)鐘漂移程度；

第二校正確定模塊，配置為基于所述曲線偏移斜率對(duì)所述原始運(yùn)動(dòng)變化曲線進(jìn)行校正，得到所述目標(biāo)運(yùn)動(dòng)變化曲線。