[發明專利]一種降低銅粉表層氧含量的清洗裝置

在審

• 申請號: 202110285767.3
• 申請日: 2021-03-17
• 公開（公告）號: CN112877707A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 蘇耳兵;張耀輝;陳東
• 申請（專利權）人: 寧波廣新納米材料有限公司
• 主分類號: C23G3/00
• 分類號: C23G3/00;C23G1/10
• 代理公司: 北京金智普華知識產權代理有限公司 11401
• 代理人: 徐會娟

本發明公開了一種降低銅粉表層氧含量的清洗裝置，涉及銅粉清洗技術領域，其技術方案要點包括酸洗罐、水洗罐以及固液分離機構，所述酸洗罐的上端設置有投料口和進酸口，所述進酸口連接有入口端與所述酸洗罐的底部連通的一級容積泵，所述一級容積泵連接有酸池；所述水洗罐的上端設置有進料口和進水口，所述進水口連接有入口端與所述水洗罐的底部連通的二級容積泵，所述二級容積泵連接有水池；所述固液分離機構的上端入口端與所述一級容積泵、二級容積泵連通，底部出口端設置有排液口；所述一級容積泵、二級容積泵、水洗罐和固液分離機構連通有惰性氣體入口端。本發明具有使用便捷、易于參數控制以及便于大規模加工生產超細銅粉的效果。

技術領域

本發明涉及銅粉清洗技術領域，更具體地說它涉及一種降低銅粉表層氧含量的清洗裝置。

背景技術

隨著電子工業的飛速發展，各種電子元件的需求越來越大，其中超細銅粉在MLCC內電極上的應用銅粉具有電阻率小、電遷移速度小、價格優廉等優點，是銀鈀內電極的理想替代品之一。但其化學性質較活潑，在空氣中，比表面積大的粉狀銅極易氧化，表面會形成Cu2O和CuO的薄膜，使其導電性迅速下降，甚至變為不導電，因此針對低氧含量的超細銅粉的需求越來越迫切。

在現有技術中，銅粉表層氧含量的清洗以及各類參數的調配與控制難度大，進而嚴重影響到超細銅粉的規?；庸どa的效果，有待改進。

發明內容

針對現有技術存在的不足，本發明的目的在于提供一種降低銅粉表層氧含量的清洗裝置，該降低銅粉表層氧含量的清洗裝置具有使用便捷、易于參數控制以及便于大規模加工生產超細銅粉的效果。

為實現上述目的，本發明提供了如下技術方案：

一種降低銅粉表層氧含量的清洗裝置，包括酸洗罐、水洗罐以及固液分離機構，所述酸洗罐的上端設置有投料口和進酸口，所述進酸口連接有入口端與所述酸洗罐的底部連通的一級容積泵，所述一級容積泵連接有酸池；所述水洗罐的上端設置有進料口和進水口，所述進水口連接有入口端與所述水洗罐的底部連通的二級容積泵，所述二級容積泵連接有水池；所述固液分離機構的上端入口端與所述一級容積泵、二級容積泵連通，底部出口端設置有排液口；所述一級容積泵、二級容積泵、水洗罐和固液分離機構連通有惰性氣體入口端。

本發明進一步設置為：所述酸洗罐和水洗罐的頂端均設置有液位計、PH計和溫度計。

本發明進一步設置為：所述酸洗罐和水洗罐的頂端還設置有抽氣孔、用于與所述惰性氣體入口端連通的保護氣氛進氣孔、截止閥、壓力表和測氧儀。

本發明進一步設置為：還包括用于對所述酸洗罐和水洗罐進行抽真空操作的真空泵。

本發明進一步設置為：所述進酸口和所述一級容積泵之間設置有球閥f4；所述一級容積泵與所述固液分離機構之間設置有球閥f5和球閥f6。

本發明進一步設置為：所述酸洗罐的底部與所述一級容積泵之間設置有球閥f1和球閥f2，所述酸池與所述一級容積泵之間設置有球閥f3。

本發明進一步設置為：所述二級容積泵與所述固液分離機構之間設置有球閥f7和球閥f8，所述固液分離器內設置有濾袋。

本發明進一步設置為：所述進水口與所述二級容積泵之間設置有球閥f9。

本發明進一步設置為：所述水洗罐的底部與所述二級容積泵之間設置有球閥f10和球閥f12，所述水池與所述二級容積泵之間設置有球閥f11。

本發明進一步設置為：所述惰性氣體入口端與所述一級容積泵之間設置有球閥a；所述惰性氣體入口端與所述固液分離機構之間設置有球閥b；所述惰性氣體入口端與所述二級容積泵之間設置有球閥c；所述惰性氣體入口端與所述水洗罐之間設置有球閥d。