[發(fā)明專利]可用于保持礦物粘結(jié)劑組合物的高坍落流動(dòng)度的共聚物、它們的制備和用途在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110284783.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113072668A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳亞雷;祝佳麗;劉江虹;于超;高海浪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | SIKA技術(shù)股份公司 |
| 主分類號(hào): | C08F283/06 | 分類號(hào): | C08F283/06;C08F299/02;C08F220/06;C08F220/20;C04B24/26;C04B28/04 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 宓霞 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 保持 礦物 粘結(jié) 組合 高坍落 流動(dòng) 共聚物 它們 制備 用途 | ||
1.通過(guò)以下單體的共聚獲得的共聚物:
(i)至少一種通式(I)的單體a
其中
R1、R2和R3彼此獨(dú)立是H或甲基,
R4是H、C1-C20烷基、芳烷基或芳基,
A是具有2-4個(gè)C原子的亞烷基基團(tuán),
x=0、1或2,和
n=40-60;
(ii)至少一種通式(II)的單體b
其中
R1、R2和R3彼此獨(dú)立是H或甲基,
R4是H、C1-C20烷基、芳烷基或芳基,
A是具有2-4個(gè)C原子的亞烷基基團(tuán),
x=0、1或2,和
n=70-120;
(iii)至少一種通式(III)的單體c
其中
Ru和Rv彼此獨(dú)立是H或甲基,
Rp是H或COOM,
M選自H、堿金屬、堿土金屬、銨或有機(jī)銨基團(tuán);和
(iv)任選地,至少一種通式(IV)的單體d
其中
Ru和Rv彼此獨(dú)立是H或甲基,
R5是基團(tuán)-(AO)n-R6,其中A是亞烷基基團(tuán),R6是H或甲基,和n=2-35,或者R5是C1-C6烷基基團(tuán),該基團(tuán)可以被氮、氧或硫取代。
2.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其特征在于在通式(I)中,n=50-60。
3.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其特征在于在通式(II)中,n=76-113。
4.如權(quán)利要求3中所述的共聚物,其特征在于n=80-100。
5.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其中在通式(I)、(II)和任選的(IV)中的亞烷基基團(tuán)A是亞乙基基團(tuán)。
6.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其特征在于所述單體的摩爾比例a:b:c:d在1-5:1:1.5-30:0-2范圍內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6中所述的共聚物,其特征在于所述單體的摩爾比例a:b:c:d在1-4:1:5-25:0-2范圍內(nèi)。
8.如權(quán)利要求6中所述的共聚物,其特征在于所述單體的摩爾比例a:b:c:d在1-4:1:5.5-25:0-2范圍內(nèi)。
9.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其特征在于在通式(I)中,R1是甲基,R2和R3是H,R4是H,A是亞乙基,x=1或2,和n=40-60。
10.如權(quán)利要求9中所述的共聚物,其特征在于x=2。
11.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其特征在于在通式(II)中,R1是甲基,R2和R3是H,R4是H,A是亞乙基,x=1或2,和n=70-120。
12.如權(quán)利要求11中所述的共聚物,其特征在于x=1。
13.如權(quán)利要求1中所述的共聚物,其特征在于在通式(IV)中,R5是羥乙基基團(tuán)或羥丙基基團(tuán)。
14.如權(quán)利要求1-13中任一項(xiàng)所述的共聚物,其特征在于所述共聚物是粉末的形式。
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