[發(fā)明專利]一種適用于水下粗糙基底的碳納米管干膠及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110284671.5 | 申請日： | 2021-03-17 |
| 公開（公告）號： | CN113088199B | 公開（公告）日： | 2022-05-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 徐鳴;李若彤;周笛 | 申請（專利權(quán)）人： | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號： | C09J1/00 | 分類號： | C09J1/00;C01B32/168;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人： | 孔娜 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 適用于 水下 粗糙 基底 納米 管干膠 及其 制備 方法 | ||
1.一種碳納米管干膠在水下粗糙基底上的應(yīng)用，其特征在于，所述碳納米管干膠由以下步驟制備：
將碳納米管陣列進行等離子體刻蝕，以刻蝕掉所述碳納米管陣列端部的非陣列結(jié)構(gòu)而形成結(jié)點結(jié)構(gòu)，繼而得到適用于水下粗糙基底的碳納米管干膠；
所述碳納米管陣列的密度為15mg/cm3～65mg/cm3；其中，等離子體刻蝕時，先將所述碳納米管陣列放置于等離子體刻蝕機中，并控制等離子體處理的氣體，在預(yù)定的功率下刻蝕預(yù)定時間，所述氣體為氬氣或者氧氣，所述預(yù)定功率為10W～120W；
使用時，該結(jié)點結(jié)構(gòu)的結(jié)點與粗糙基底上的孔隙會形成納米互鎖的結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的碳納米管干膠在水下粗糙基底上的應(yīng)用，其特征在于：所述碳納米管陣列的高度為50μm～1200μm。
3.如權(quán)利要求2所述的碳納米管干膠在水下粗糙基底上的應(yīng)用，其特征在于：所述碳納米管陣列的高度為250μm～400μm，密度為25mg/cm3～35mg/cm3。
4.如權(quán)利要求1所述的碳納米管干膠在水下粗糙基底上的應(yīng)用，其特征在于：所述預(yù)定功率為30W。
5.如權(quán)利要求1所述的碳納米管干膠在水下粗糙基底上的應(yīng)用，其特征在于：所述預(yù)定時間為30秒～180秒。
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