[發明專利]一種沖擊波測量靶準靜壓標定用膜片室及系統

在審

• 申請號: 202110284029.7
• 申請日: 2021-03-17
• 公開（公告）號: CN113091974A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 葉希洋;嚴家佳;王丹;張俊鋒;何性順
• 申請（專利權）人: 西安近代化學研究所
• 主分類號: G01L5/00
• 分類號: G01L5/00;G01L25/00
• 代理公司: 西安恒泰知識產權代理事務所 61216
• 代理人: 史玫

1.一種沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，包括：

氣室上基體，該氣室上基體內沿軸向開設有通孔，該通孔的內壁設有膜片安裝部，該膜片安裝部部位的內徑為待標定膜片的標定尺寸，所述膜片安裝部將通孔分割為上通孔和下通孔，且在所述膜片安裝部未安裝待標定膜片時，所述上通孔與下通孔貫通；所述下通孔的側壁開設有出氣通孔；

氣室下基體，該氣室下基體安裝于所述下通孔中，且氣室下基體外壁與下通孔內壁之間設有空隙形成氣室，該氣室與所述出氣通孔相通，且在所述膜片安裝部未安裝待標定膜片時，所述氣室與所述上通孔貫通，所述氣室下基體底部設有進氣口，氣室下基體內設有氣體通道，且氣體通道連通進氣口與氣室，在所述膜片安裝部安裝有待標定膜片時，所述氣室和氣體通道通過進氣口和出氣通孔對外相通。

2.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，所述通孔的內壁設有內凸環狀平臺，該內凸環狀平臺為膜片安裝部。

3.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，還包括：

壓環，所述壓環的內徑取待標定膜片的標定尺寸，所述壓環用于安裝于上通孔中且壓在待標定膜片周邊；

壓蓋，該壓蓋上開設通氣孔，所述壓蓋用于蓋在氣室上基體上，且位于上通孔上端通過壓環給待標定膜片周邊施加約束。

4.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，還包括安裝座，所述安裝座設置在氣室下基體底部邊緣。

5.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，所述氣室下基體軸向上端部外徑小于所述下通孔的內徑，氣室下基體軸向下端部外徑與下通孔內徑匹配，所述氣室下基體上端部與下通孔內壁之間形成氣室。

6.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，所述氣體通道包括至少一條軸向支通道和至少一條徑向支通道，各軸向支通道底部與進氣口相通，各徑向支通道與至少一條軸向支通道相通，同時各徑向支通道的端部與氣室相通。

7.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，所述進氣口的口徑大于所述氣體通道的內徑。

8.如權利要求1所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定用膜片室，其特征在于，所述下通孔的外壁設有與出氣通孔相通的出氣口，該出氣口的口徑大于所述出氣通孔的內徑。

9.一種沖擊波測量靶準靜態壓力標定系統，其特征在于，包括供氣瓶和權利要求1所述的膜片室，所述供氣瓶通過氣管與所述進氣口連接。

10.如權利要求9所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定系統，其特征在于，還包括緩沖器氣瓶，所述緩沖氣瓶連接在氣管上，且在氣路上位于供氣瓶和膜片室進氣口之間。

11.如權利要求9或10所述的沖擊波測量靶準靜態壓力標定系統，其特征在于，膜片安裝部上安裝待標定膜片后，膜片軸向下方空腔容積之和與供氣瓶容積之比小于1:1000，或者，膜片軸向下方空腔容積之和與緩沖氣瓶容積之比小于1:1000。