[發明專利]富氫水飽和溶氫裝置

在審

• 申請號: 202110283466.7
• 申請日: 2021-03-15
• 公開（公告）號: CN113149173A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 呂大明
• 申請（專利權）人: 呂大明
• 主分類號: C02F1/68
• 分類號: C02F1/68;C02F103/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種富氫水飽和溶氫裝置，其特征是：由N層凹面向下氣密薄層穹頂形組件疊摞構成，1≤N≤99；該裝置安置于飲用水容器中，輸入的氫氣以氣泡狀自下部上浮，各凹面向下氣密薄層穹頂形組件將氫氣泡俘獲聚集，增大氫氣與飲用水接觸表面積，延長氫氣在水中溶解時間，達到充分溶解氫氣于飲用水中的效果。

2.根據權利要求1所述一種富氫水飽和溶氫裝置，其特征是多層傘結構：由N個“傘”于中軸處對插疊摞構成，形如微縮寶塔，1≤N≤99，“傘”為薄層穹頂凹面向下氣密構件，傘面一側邊緣有“溢氣孔”，孔數及形狀不限，提供集聚過量氫氣溢出上浮通路；傘中心裝配軸設有定位結構：裝配軸在傘面上下部分互為公母，接插旋轉角度為φ，1°≤φ≤359°，常規φ＝±180°。

3.根據權利要求1所述的一種富氫水飽和溶氫裝置，其特征是多層廊檐結構：由N個“閉環形廊檐”或“非閉環形廊檐”插接疊摞構成，1≤N≤99，“廊檐”為薄層穹頂凹面向下氣密構件，廊檐面一側邊緣有“溢氣孔”，孔數及形狀不限，提供過量氫氣溢出上浮通路；裝配軸在廊檐面上下部分互為公母，接插旋轉角度φ，1°≤φ≤359°，常規φ＝±180°。

4.根據權利要求1所述的一種富氫水飽和溶氫裝置，其特征是多層旋升式廊檐結構：廊檐為薄層穹頂凹面向下氣密構件，如同旋轉樓梯環繞上升形成N層，1≤N≤99；多層旋升式廊檐裝置安置于富氫水容器中，氫氣從其最下層端口輸入最合理，氫氣沿穹頂縱軸線自然緩慢地向上側漂浮移動，經N圈環繞到最上層時，相當部分已被溶解入水中，未溶解部分從端口溢出；該裝置的穹頂軸線形狀不限，可圓形、超圓形甚至矩形、多邊形、不規則形等。

5.根據權利要求1所述的一種富氫水飽和溶氫裝置，其特征是：這一解決方案也適用于其它難溶氣體高效溶解于水的場合。