[發明專利]一種沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法

在審

• 申請號: 202110282339.5
• 申請日: 2021-03-16
• 公開（公告）號: CN113016553A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 郭丁琦;王建新;欒生超;陳振宏;鄭曉琳;高蕊;李煥蓉
• 申請（專利權）人: 郭丁琦
• 主分類號: A01G23/00
• 分類號: A01G23/00;A01G17/00;E03F3/04
• 代理公司: 西安匯恩知識產權代理事務所(普通合伙) 61244
• 代理人: 彭瓊

本發明公開了一種沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法，涉及種植造林技術領域，該沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法，該方法包括如下步驟：S1、選擇造林地，并根據造林地的條件類型，將造林地劃分成不同的種植區域；S2、將S1中不同種植區域的土壤進行平整；S3、將不同種植區域平整后的土壤進行檢測，并根據檢測結果，對不同種植區域的土壤進行施肥，以增加肥力；本發明能夠根據黃土陡坡地區困難立地不同的地形條件，種植與其相適應的樹木，并可根據不同的地形條件調整樹木種植的比例、位置以及植被群落的結構，從而提高黃土陡坡地區困難立地造林的存活率和保存率，實現黃土陡坡地區困難立地的有效造林。

技術領域

本發明屬于種植造林技術領域，具體涉及一種沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法。

背景技術

在黃土陡坡地區，地形破碎，并且由于土地不合理的利用，以及土壤水分條件差，導致林草覆蓋率低，從而使得黃土陡坡地區困難立地的比例不斷增加，因此，黃土陡坡地區困難立地的生態治理逐漸稱為林業生態建設急需攻克的問題。現有的沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法大多采用沿等高線設計一定等距離株距和行距進行樹種配置。但是黃土陡坡地區困難立地的地形條件不同，容易導致種植的苗木不能全部存活和生長，造成黃土陡坡地區困難立地的造林存活率和保存率低，另外，黃土陡坡地區困難立地水土流失嚴重，容易導致苗木的生長環境變差，影響苗木的存活和生長。

發明內容

本發明的目的在于提供一種沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法，以解決上述背景技術中提出的問題，能夠增加種植樹木的存活率和保存率，達到提高黃土陡坡地區困難立地的造林效果的效果。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種沿黃陡坡困難立地高質量綜合造林方法，該方法包括如下步驟：

S1、選擇造林地，并根據造林地的條件類型，將造林地劃分成不同的種植區域；

S2、將S1中不同種植區域的土壤進行平整；

S3、將不同種植區域平整后的土壤進行檢測，并根據檢測結果，對不同種植區域的土壤進行施肥，以增加肥力；

S4、根據不同種植區域的條件類型，選擇相適應的苗木；

S5、然后在不同種植區域挖穴栽種，并在穴坑之間開挖一條寬10-30cm，深10-15cm的排水溝，而后將對應的苗木種植于不同種植區域的穴坑中，完成栽種；

S6、最后定期對苗木進行養護。

優選的，S1中所述的不同種植區域包括淺溝區、切溝區、塌陷區、緩臺區以及陡坎區。

優選的，S2中所述的不同種植區域的土壤平整步驟具體如下：

(1)、先將不同種植區域的土地進行翻土；

(2)、再將翻起的土壤平整，形成平地；

(3)、而后再次翻土；

(4)、然后將翻起的土壤再次平整，并將土地整成寬度為2-4米的階梯狀。

優選的，S3中所述土壤檢測的指標主要為土壤有機質含量，包括氮、磷和鉀。

優選的，S3中所述土壤施肥主要包括以下步驟：

1)、在不同種植區域的土壤上開挖施肥穴坑；

2)、根據不同種植區域的土壤檢測結果，選擇適量的肥料；

3)、通過人工施肥將肥料播撒于不同種植區域土壤上的施肥穴坑中，并回填土壤，以增加土壤有機質。

優選的，S4中所述苗木的苗高為60-80cm，地徑為0.6-0.8cm，且所述苗木主要包括喬木和灌木。