[發(fā)明專利]用于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的后處理系統(tǒng)的配給模塊

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110281919.2
• 申請(qǐng)日: 2017-04-13
• 公開（公告）號(hào): CN112983605B
• 公開（公告）日: 2022-11-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 拉爾夫·羅爾米勒;托馬斯·柯萊瑟爾;克里斯蒂安·蓋斯;喬納斯·霍夫曼;雅各布·斯唐;弗雷德里希·約翰·察普夫;哈拉爾德·布賴滕巴赫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 康明斯排放處理公司
• 主分類號(hào): F01N3/20
• 分類號(hào): F01N3/20;F01N9/00;F01N13/00
• 代理公司: 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262
• 代理人: 湯慧華;楊明釗

本申請(qǐng)涉及用于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的后處理系統(tǒng)的配給模塊。后處理系統(tǒng)包括入口排氣段、出口排氣段、第一后處理部件、第一配給模塊和第二配給模塊。入口排氣段接收排氣。出口排氣段與入口排氣段流體連通。第一后處理部件接收來自入口排氣段的排氣，處理排氣，并將排氣提供給出口排氣段。第一配給模塊沿著入口排氣段定位。第一配給模塊被構(gòu)造成選擇性地對(duì)排氣配給還原劑。第二配給模塊沿著出口排氣段定位。第二配給模塊被構(gòu)造成選擇性地對(duì)排氣配給還原劑。

本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2017年04月13日，申請(qǐng)?zhí)枮?01780089500.9，發(fā)明名稱為“用于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的后處理系統(tǒng)的配給模塊”的申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)總體上涉及用于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的后處理系統(tǒng)(aftertreatment systems)的配給模塊(dosing modules)的領(lǐng)域。

背景技術(shù)

對(duì)于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)(例如，柴油發(fā)動(dòng)機(jī))，氮氧化物(NO_x)化合物可能在排氣中被排放。為了減少NO_x排放物，可實(shí)施選擇性催化還原(SCR)過程，以借助于催化劑和還原劑將NO_x化合物轉(zhuǎn)化成更中性的化合物，例如雙原子氮、水或二氧化碳。催化劑可以被包括在排氣系統(tǒng)的催化劑室中，例如交通工具或動(dòng)力產(chǎn)生單元的排氣系統(tǒng)的催化劑室。還原劑(例如，無水氨、氨水、柴油機(jī)排氣處理流體(diesel exhaust fluid)(DEF)、或尿素溶液)通常在被引入催化劑室之前被引入到排氣氣體流中。為了將還原劑引入到排氣流中以用于SCR過程，SCR系統(tǒng)可以通過配給模塊(dosing module)配給或以其它方式引入還原劑，該配給模塊將還原劑蒸發(fā)或噴灑到排氣系統(tǒng)的排氣管中。SCR系統(tǒng)可以包括一個(gè)或更多個(gè)傳感器以監(jiān)控在排氣系統(tǒng)內(nèi)的狀況。

發(fā)明內(nèi)容

在一個(gè)實(shí)施例中，一種后處理系統(tǒng)包括入口排氣段、出口排氣段、第一后處理部件、第一配給模塊和第二配給模塊。入口排氣段接收排氣。出口排氣段與入口排氣段流體連通。第一后處理部件接收來自入口排氣段的排氣，處理排氣，并將排氣提供給出口排氣段。第一配給模塊沿著入口排氣段定位。第一配給模塊被構(gòu)造成選擇性地對(duì)排氣配給還原劑。第二配給模塊沿著出口排氣段定位。第二配給模塊被構(gòu)造成選擇性地對(duì)排氣配給還原劑。

在一些實(shí)施例中，所述入口排氣段直接從渦輪增壓器接收排氣。

在一些實(shí)施例中，所述后處理系統(tǒng)還包括：第二后處理部件，其處理排氣并將排氣提供給所述出口排氣段；和連接排氣段，其接收來自所述第一后處理部件的排氣并將排氣提供給所述第二后處理部件；其中所述第二配給模塊沿著所述連接排氣段定位。

在一些實(shí)施例中，所述第一后處理部件和所述第二后處理部件中的至少一個(gè)包括多個(gè)段；并且其中所述段中的每個(gè)包括后處理部件。

在一些實(shí)施例中，所述第一后處理部件和所述第二后處理部件中的每一個(gè)執(zhí)行選擇性催化還原。

在一些實(shí)施例中，所述第一后處理部件與所述第二后處理部件以不同的方式處理排氣。

在一些實(shí)施例中，所述后處理系統(tǒng)還包括：

還原劑源，其存儲(chǔ)還原劑；和

流體回路，其包括：

第一段，其與所述還原劑源和所述第二配給模塊流體連通；

第二段，其與所述第二配給模塊和所述第一配給模塊流體連通；和

第三段，其與所述第一配給模塊和所述還原劑源流體連通。

在一些實(shí)施例中，所述后處理系統(tǒng)還包括供應(yīng)單元，所述供應(yīng)單元選擇性地抽取來自所述還原劑源的還原劑，并將還原劑提供給所述第一配給模塊和所述第二配給模塊；其中所述流體回路還包括第四段，所述第四段與所述供應(yīng)單元和所述還原劑源流體連通；并且其中所述流體回路的所述第三段與所述供應(yīng)單元流體連通。